中古 ASML PAS 2500 / 40 #9027711 を販売中

ASML PAS 2500/40は、半導体製造プロセスで一般的に採用されているウェハステッパーです。これは、高度なステップ&リピート機器であり、ASMLフォトマスクとレチクル（P&R）マスク生産ポートフォリオの一部です。このツールは、マスク生産における高い生産性と歩留まりを可能にするだけでなく、製造現場がより小さなデバイスサイズとより速いサイクルタイムの需要に応えるのを助けるように設計されています。ASML PAS 2500/40は、4つの光学システム、両面マスクステージ、暗視野イメージング機能、パターンジェネレータを使用して、必要な精度とスループットを提供します。プラットフォームの両面ウェーハステッパーは、4インチと8インチのプラットフォームをサポートするように設計されており、最も複雑なマスクでも簡単に処理できます。このシステムは、100万パターンの配列を作成することができ、50nmの解像度を提供します。PAS 2500/40には、マスク検査ユニット、超高精度基板ステージ、さまざまな高度なソフトウェアツールなどの高度な機能が搭載されています。また、照明の均一性を向上させるように設計された革新的な照明機を備えており、焦点の深さを高め、歩留まりを改善します。このツールはまた、1時間あたり最大25ウェーハで高速スキャン速度を提供します。PAS 2500/40は、非常に低い欠陥率で信頼性の高いツールであり、バリや歪みを最小限に抑えた高品質のマスクを作成することができます。環境に優しいソリューションであり、RoHSが承認されており、環境フットプリントを大幅に削減しています。このウェーハステッパーは、マスクローディングから基板アンロードまでの効率的なエンドツーエンド生産プロセスを提供し、ユーザーに最大の稼働時間と運用コストを提供します。さらに、直感的なソフトウェアにより、ユーザーはプロセスを素早くセットアップして監視することができます。一方、統合されたワークフローは、生産効率を向上させ、プロジェクトを迅速に回すのに役立ちます。全体として、ASML PAS 2500/40はマスク製造のためのワンストップソリューションを提供し、半導体メーカーにとって不可欠なツールです。生産量を増やし、コストを削減し、製造の効率と品質を向上させるように設計されています。