中古 VARIAN 3125 #9082989 を販売中

VARIAN 3125は、研究者に非常に低予算の実験室プラズマ機器を提供するように設計されたスパッタイオンポンプ（SIP）です。このシステムは、そのサイズから「マイクロプラズマ」ユニットとして知られており、堆積パラメータを非常に細かく制御する必要がある研究に最適です。このマシンには、金アノード、銅ソース（ターゲット）、および4mmのターゲットから基板までの距離を備えた3125スパッタイオンポンプが含まれています。SIPは、基板サンプルにイオン化ガス種（水素や窒素など）をスパッタするための低エネルギーのプラズマを生成するように設計されています。このプロセスは、ターゲットから基板に材料を転送し、薄い均一な層にコーティングします。ツールは、さまざまな設定で動作します。アノード電圧は放出されたイオンエネルギーと熱伝導電流密度を設定し、ソース電圧はターゲット電極放電プロセスを制御します。基板とターゲット間の距離は、生成されたイオンの速度を制御し、それによって基板に到達するターゲット材料の割合を決定します。VARIAN 3125はクローズドサイクルの加圧資産であり、動作に外部ガスは必要なく、サンプルへの汚染のリスクはありません。これにより、コストと時間のかかるガス供給のメンテナンスと補充が不要になります。このモデルは、ターゲットと基板の距離の0-2mmの範囲で信頼性の高いスパッタ動作が可能であり、シングルターゲット蒸着には最大推奨距離4mmです。3125は、損傷や汚染の可能性がないサンプルに低温、低質量、低レベルの材料を堆積する場合に特に便利です。例えば、ガラス、セラミックス、合金などのさまざまな基板にサンプルコーティングを堆積させるためによく使用されます。さらに、このシステムは、サンプルの電気的および光学的特性のナノスケール堆積または微調整に強く推奨されます。VARIAN 3125スパッタイオンポンプは、低予算で最高の性能を必要とする研究用途に最適な精密な機能を備えたコンパクトユニットです。小型で幅広い動作設定、信頼性の高いスパッタリングプロセスにより、世界中の研究室で貴重なツールとなっています。