中古 ULVAC Entron W 200T6 #9003925 を販売中
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販売された
ID: 9003925
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2005
PVD Sputtering system, 8"
Chemical dry pre-clean chamber
Anneal chamber for chemical dry pre-clean chamber
Anneal chamber for post anneal
PVD-Ni (Ring-Ni) chamber
PVD-TiN chambers
PVD Co chambers
Includes:
Open cassette buffer station
(2) Spare shields chamber
Host communications (SECS/GEM)
S2 Safety
TiN Target
Co Target
Ni Target and backing plate
Dry pumps
Gas scrubber
Platform: NCH6000
Process specifications: CDT + Co, Ni silicide process
Front interface: Buffer station (4) ports open cassette type
Gas scrubber
Substrate size: 200 mm
Signal tower
Standard chambers layout and chamber
Platform: ENTRON NCH6000 Tandem core
With intermediate chamber isolation valve
Compatible with differential pressure transfer (FX has Ar line with needle valve)
(2) KEYTRAN4Z Vacuum robots
Double hand type with wafer pickup (A12O3)
Main pumps:
(2) SHIMADZU TMP403LM
(2) CRYO T6E RS10
(4) BOC EDWARDS Fore pumps
C30ZR Cryo compressor
(2) G-TRAN BMR2/M-13 Vacuum gauges
(2) G-TRAN BPR2/WPB-010-034 Pirani vacuum gauges
(2) Gas feed system: Gas piping for ventings (With filter)
Control system:
Operation unit: ULV100U-400 Model 17 liquid crystal display
Control system: MS-IVA
EDWARDS Dry pumps
Sputter source
Power supplies
Shielding
Targets
Manuals
2005 vintage.
ULVAC Entron W 200T6は、薄膜を基板に高度に成膜するために設計された高度なスパッタリング装置です。薄膜光学系、半導体デバイス、その他マイクロ電子デバイスなど、幅広い用途に対応できる特長を有しています。ULVAC ENTRON W-200T6はシンプルながらパワフルなスパッタリングユニットです。200mm容量の長方形の基板ステージを備えており、スパッタコーティング時の基板の均一な動きを可能にし、大型基板の加工に適しています。Entron W 200T6は、新しいデュアルガンスパッタリングを使用して、より高い蒸着速度とスパッタ材料のより良い均一性を可能にします。さらに、コーティング工程中に外部に取り付けられたマグネトロンスパッタ源を使用することで、不要な粒子やプラズマ堆積物からさらに保護されます。マシンのデジタルコントロールユニットには、いくつかのユーザーフレンドリーなオプションと機能もあります。マルチモニターディスプレイを内蔵しており、オペレータがコーティングプロセスを監視することができます。ユーザーインターフェイスには、ターゲット組成、スパッタリング圧力、ガス流量など、さまざまな堆積パラメータも用意されています。また、コーティングプロセスをより簡単かつ効率的にするためのプログラム可能なタイムサイクルをユーザーに提供します。ENTRON W-200T6はまた、蒸着プロセスに必要な環境を提供するために高度な真空ツールを採用しています。この洗練された真空アセットには、ロータリーベーンを備えたターボポンプが毎秒35リットルを超え、ポンプ速度が毎秒15リットルまでのターボ分子ポンプが含まれています。ポンプのこの組合せは基質のための速い避難プロセスおよび部屋の周囲圧力の精密な制御を保障します。最後に、ULVAC Entron W 200T6はまた、追加のアクセサリーの範囲を提供しています。これらのアクセサリーには、ウェーハローダー、排気ポート、センサー、その他のコンポーネントが含まれます。これらのアクセサリーは、光学デバイス用の薄膜、マイクロエレクトロニクス部品、および高度な薄膜電極から、さまざまな用途に適しています。
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