中古 TOUSIMIS Automegasamdri 915B #9184802 を販売中

TOUSIMIS Automegasamdri 915Bは、幅広い材料に薄膜を堆積させるために設計された最先端のスパッタリング装置です。薄膜成膜用材料のスパッタリングに高度な技術を活用しています。10-5 torrまでの圧力でアルゴンまたはネオン不活性ガスでスパッタリングすることができます。Automegasamdri 915Bスパッタリングユニットは、蒸着プロセスを最適化するための高度な機能を備えています。2MHzの水晶制御周波数機能を備えた3方向電源装置により、DCとRFの電力レベルを厳密に制御できます。このツールはまた、スパッタプロセス中に最適な温度を確保するために、基板とスパッタガンの両方のための低温冷却設備を備えています。統合されたプログラマブルロジックコントローラ（PLC）により、簡単で信頼性の高いプロセス制御が可能です。このアセットは、ディスクや長方形プレートなど、さまざまな形状とサイズの8つの基板に対応するように設計されています。この施設には2つの独立したスパッタガンがあり、高い蒸着率で様々な材料基板の柔軟な加工が可能です。また、薄膜成膜時に重なり、角度のある層を生成することも可能です。オプションのRIBE（相互衝撃ビーム蒸発）ソースも、追加機能のために統合することができます。TOUSIMIS Automegasamdri 915Bは幅広いワークスペースを備えているため、機密部品に簡単にアクセスでき、迅速かつ一貫した部品生産と効率的な操作が可能です。この装置は、クロム、ニッケル、モリブデン、シリコン、プラチナ、チタン、金など、さまざまな材料と互換性があります。このシステムには、フェイスシールドや保護グローブなどのセーフティギア、スパッターガンリークアイソレーションボックス、二酸化炭素検出器が付属しています。その堅牢な構造と設計により、長期的な耐久性と操作性が保証されます。Automegasamdri 915Bは、フラットパネルディスプレイ、太陽電池、MEMS、光学コーティングなど、さまざまな薄膜成膜アプリケーションに最適なソリューションです。その汎用性、安全性、効率性は、あらゆる産業用スパッタリングのニーズに最適な資産です。