中古 TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nimbus 364 #9202788 を販売中

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ID: 9202788
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Sputtering system, 12" Nimbus XP-RDL system (354): 8"/12" Includes: MAGNETRON: G1 HP (Ti) MAGNETRON: G1 HP (W) MAGNETRON: G1 HP (Al) (3) MAGNETRONS : AL HP (Al) ICP Etch Second cryo pump: Deposition chamber RF Substrate bias Load lock degas (2) ESC Trays: 12" Additional cable length EMO State SECS/GEM 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 364は、半導体やフォトニック用途に特化した最先端のスパッタリングシステムです。LED、太陽電池、ディスプレイ、イメージセンサーなどの複合半導体デバイスの製造において、高度なプロセス制御と精度を実現します。TEL Nimbus 364の高度なDCおよびHi-Bias RFスパッタプロセスは、業界をリードするプロセス機能を提供します。DPC (Dynamic Process Control)は、電源振幅と負のバイアスパルス周波数を制御することで、蒸着量を微調整できる高度なスパッタリング技術です。このタイプのプロセス制御機能は、結果の一貫した再現性を備えた優れた材料の生産を保証します。NEXX Nimbus 364はデュアル周波数電源も備えており、最大480Wの高い電力レベルを提供し、2周波数動作の柔軟性を提供します。このデュアル機能により、沈着時のアーク発生率を低減し、プロセス全体の精度を向上させます。さらに「、ウィンドウ」インターロック安全機能は、プロセス中に障害が検出された場合に基板または部品の損傷を防ぐのに役立ちます。このシステム独自のロードロックにより、基板ホルダーの迅速かつ簡単な積み下ろしが可能になり、迅速かつ効率的な操作が保証されます。ダイヤモンド状のカーボンコーティングにより、チャンバーと基板の性能が向上し、精度と耐久性が向上します。高温制限は368。2°Cに設定され、優れた熱容量を可能にしますが、便利な人間工学に基づいたコントロールパネルは、プロセスのワンタッチ制御を提供します。Nimbus 364は、今日の半導体アプリケーションの要件を満たすように特別に設計された、信頼性の高い一貫したスパッタリングプロセスをオペレータに提供します。高度なプロセス制御機能、優れた材料仕様、耐久性を備えた東京エレクトロンニンバス364システムは、半導体業界の進化するニーズに対応するための効果的なソリューションです。
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