中古 PERKIN ELMER 2400 #9022812 を販売中

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ID: 9022812
Sputtering system CTI-8 cryo pump Power supply in separate cabinet Veeco RG1000 pressure gauge MKS Baratron (4) Targets Welch mechanical pump Argon and Nitrogen are plumbed in Flows are controlled by MFCs Power is RF only Sputtered: silicon.
PERKIN ELMER 2400スパッタリングシステムは、薄膜、ナノ構造、基板上の多層積層のための精密な堆積層を提供する世界をリードするスパッタリングツールです。精密コーティングからオプトエレクトロニクスおよびMEMSベースのデバイスの製造まで、さまざまな用途に最適です。堅牢なハイスループット設計により、高い蒸着速度と精度で均一なスパッタリングを実現します。この機械には、直径200mmまでの基板に対応できる可変領域ロードロックチャンバーと、複数の金属と幅広い合金をスパッタリングすることができる複数の惑星ターゲットが装備されています。ターゲットは特許取得済みのスパッタレスDC電源に搭載されており、独立したRF電源を備えた最大6台のターゲットを同時に駆動できます。高電圧DC源とRFジェネレータを組み合わせることで、最大400°Cまでの目標温度での高均一コーティングと優れた蒸着率を実現します。2400には温度依存のプロセス制御機能があり、ナノ構造、薄膜スタックなどの材料ベースのデバイスを一貫した品質と再現性で堆積させることができます。温度の均一性および再現性は± 0。1°Cの決断のpyrometerを使用して監視されます。高度なRFプロセスモニタリングにより、基板温度をリアルタイムでフィードバックし、最適な基板洗浄および沈着結果を保証します。また、3Dコーティングを可能にするフロアスタンディングエンドエフェクターを備えた垂直スパッタリング技術も搭載しています。これは、最適なコーティング結果を得るためにパルス周波数と幅プロファイルを変化させるために使用することができるオンボードプログラマブルパルス発生器を装備しています。チャンバー内でホストされた走査型電子顕微鏡を使用して、沈着プロセスを現場で監視することができます。PERKIN ELMER 2400は、試料の積み下ろし、基板の取り扱い、堆積に必要な様々なツールを備えた、最大9種類の銃剣装着ペダルに対応するように設計されています。また、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを備え、完全なソフトウェア互換性を備えた完全なコンピュータ支援製造(CAM)制御を提供します。2400は、高性能スパッタリングアプリケーションに理想的なソリューションであり、優れた精度、信頼性、およびスループットを提供します。
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