中古 MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION SS-8633 #132274 を販売中

MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION SS-8633は、半導体ウェーハ、メガネ、金属などの基板に薄膜やナノ構造材料を堆積させるために開発された最先端のスパッタ装置です。このシステムは、3つの独立したスパッタリング源をさまざまな材料の組み合わせに使用し、カバレッジと最適な蒸着率を向上させます。スパッタリング源は2ターゲット陰極設計を採用しており、幅広いターゲット材料と蒸着率を実現しています。単位はまた調節可能なスパッタリング圧力、温度およびガスの流れの監視を含んでいます。このマシンは、スパッタガン電流やその他のプロセスパラメータを精密に制御し、フィルムの不均一性を最小限に抑え、高品質の薄膜のプロセス制御と最適化に最適です。また、MRC SS-8633は高度な赤外線センサを備えており、プロセス温度に対するフィードバックと制御を提供します。このツールには、過冷却防止のための自動シャットオフバルブを備えた水循環と高度な冷却管理資産が装備されています。マテリアルズリサーチ株式会社SS-8633は、迅速なターゲット切り替え時間とスパッタリングラン間のダウンタイムを最小限に抑え、耐久性と再現性に優れたスパッタリングプロセスに最適です。このモデルは、薄膜の均一性を向上させ、基板のすべての部分で精密なプロセス制御と再現性を提供します。SS-8633はまた利用できるプロセスガスの広い範囲を特色にし、異なった材料の範囲に反応性を提供します。また、MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION SS-8633は、生産性とプロセスの柔軟性を高めるために、さまざまなプロセス制御および自動化システムと統合しています。MRC SS-8633は、幅広いプロセスガスやプロセス制御に加えて、さまざまな用途や研究ニーズに対応する精密薄膜成膜を提供しています。この機器にはユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）も装備されており、ユーザーはプロセスを素早くセットアップして監視することができます。MATERIALS RESEARCH CORPORATION SS-8633、薄膜やナノ構造材料を様々な基板に迅速かつ正確に堆積させるために設計された、革新的で正確かつ高効率なスパッタリングツールです。このシステムは、正確なスパッタガン制御、調整可能なスパッタリング圧力、プロセス監視、冷却管理、さまざまなプロセスガスを備えています。さらに、このユニットは他の幅広いプロセス制御およびオートメーションシステムとも互換性があり、汎用性と生産性を向上させます。