中古 MRC 643 #9035812 を販売中

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MRC 643
販売された
製造業者
MRC
モデル
643
ID: 9035812
Sputtering system (2) cryo pumps, (2) 13"x13" cathodes targets and (1) blank target (1) Alumnium cathode, (1) Titanium, (1) blank RF Power Supply and DC Generator 208 V, 100 A, 50 Hz, 3 Ph Chamber still under vacuum MRC 8080 Microprocessor controller Pumps down to 10^-7 Torr.
MRC 643は、さまざまな用途に使用できるいくつかの高度な機能を備えた最先端のスパッタ装置です。このシステムは、マグネトロンスパッタリング技術を利用して、半導体基板と非導電基板の両方にコーティングを堆積することができます。ユニットは2つのチャンバーで構成されており、2つの異なるターゲットを同時にスパッタリングすることができます。チャンバーサイズは調節可能で、さまざまなサイズの材料を堆積させることができます。643は沈殿物の均一性を提供する浮上制御機械を含み、敏感な表面の前例のない薄いフィルムのコーティングを達成するために証明されました。このツールにはRF電源が搭載されており、さまざまなターゲットをスパッタするための幅広い出力と最適化された電源を提供します。このRF電源は、蒸着速度の向上、均一性の向上、効率の向上を可能にします。さらに、この資産は、PVD、 PECVD、マグネトロンスパッタリングなどの異なるタイプの堆積を達成するために、3つの異なるプロセスガスの選択肢を持つことができます。MRC 643はまた、プロセスごとに複数の基板を備えており、スループットを向上させることができます。これにより、大規模生産に最適です。精密用途では、643はTIR (Total Internal Reflection) X線回折能力を提供し、膜厚を容易に測定できます。最後に、この装置には、蒸着プロセス、モーションコントロール、精密ロボットエンドエフェクターの遠隔監視用のソフトウェアとハードウェアが含まれています。これにより、自動化を強化し、手動のセットアップと操作に関連するコストを削減できます。結論として、MRC 643は、比類のないレベルの精度と性能を提供する高度なスパッタリングシステムです。カスタマイズ性が高く、さまざまな用途に最適で、信頼性と費用対効果の高いスパッタリング技術をお探しのあらゆる企業に最適です。
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