中古 LEYBOLD HERAEUS Z550 #9213240 を販売中

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ID: 9213240
Sputtering system (4) Magnetron cathodes D = 150mm Sputter down: Cathodes with D = 75mm D = 100mm possible with adapter flange Heating cathode position: Magnetron cathode HF Etching Manual adaptation network: HF Rotary shutter Plant and process visualization: Operating terminal, 9" Pumping system: With D40B / TMP 450.
LEYBOLD HERAEUS Z550は、半導体産業で薄膜層を作成するために設計された高性能スパッタリング装置です。パルスDCスパッタリング、マルチターゲットスパッタリング、RFまたはDCイオンめっきプロセスのオプションを備え、正確な制御を提供する高度な制御システムを備えています。LEYBOLD Z 550は、5ゾーンの高均一ターゲットアセンブリを備えており、スパッタ材料をより良く導くために多くの磁場構成を組み込んでいます。このユニットはまた、大きな曲面でも高い均一性を作り出すことができるように、オプションの回転スパッタリングを提供します。HERAEUS Z550は、酸化物、窒化物、金属など、さまざまな材料を処理することができます。スパッタリング速度が速く、ジョブの要件に応じて毎秒0。1〜500ナノメートルの範囲があります。コンピュータ制御のプロセスパラメータは素早く調整でき、自動プロセス制御システムは信頼性の高い動作を保証します。Z 550は信頼性が高く、分散率と欠陥率が低い。高効率の真空ラインを備えた大型加工チャンバーを備えており、最適な条件下での蒸着処理が可能です。また、複数のプロセスを同時に完了できるマルチポートマシンも装備しています。堅牢なアーキテクチャを備えたLEYBOLD HERAEUS Z550は、最大10の高出力ターゲットに簡単に対応できます。安全性の面では、LEYBOLD Z 550は、基板温度を最大許容レベル以下に保つためのクローズドループ制御ツールを内蔵しています。また、安全な動作を確保するために、トリプル光学モニタリング資産などの一連の安全機能も含まれています。また、最新の業界安全基準に準拠するように設計されています。全体として、HERAEUS Z550は、半導体産業における高品質の薄膜層の堆積のために設計された強力で信頼性の高いスパッタリングモデルです。高均一ターゲットアセンブリ、コンピュータ制御のプロセスパラメータ、および低ディフェクトレートを備えています。また、さまざまな安全機能が組み込まれており、安全で信頼性の高い操作が可能です。
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