中古 KDF 903ix #9249504 を販売中

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製造業者
KDF
モデル
903ix
ID: 9249504
Sputtering system.
KDF 903ixは、様々な半導体製造プロセスにおける蒸着用に設計された最先端のスパッタ装置です。3ターゲット、デュアルソース、超高真空垂直降下スパッタシステムで、基板全体で非常に均一なフィルムの低温蒸着を可能にします。ユニットはデュアルカソードを備えており、それぞれ独立して設定可能で表示可能な3つのターゲットを備えています。また、表示可能なターゲットを使用すると、どの材料がスパッタされ、どの基板にターゲットが配置されているかをすばやく特定できます。このデュアルソースアプローチにより、基板全体に均一な低温蒸着が可能になり、垂直降下アプローチは粒子の汚染を低減します。903ixは低温スパッタ加熱機を備えており、ユーザーは500°Cまでの温度でフィルムをスパッタすることができます。それはまた、すべてのプロセスのためのより速く、より均一な沈殿を提供する高平均電力焼入れツールを持っています。フィルムを清潔で粒子のない状態に保つために、蒸着中の粒子とロボットるつぼ衛生資産を維持するために、長寿命のるつぼが使用されます。このモデルは、単一の適応可能でスケーラブルなマルチゾーン電源を備えており、最大1600ワットの総電力が可能で、さまざまなスパッタオプションを可能にします。さらに、この装置は基板とターゲットの熱効果を補償する機能を備えています。KDF 903ixには、その場でのプロセス監視のための厚さと電気シート抵抗マッピング機能を含む、統合されたプロセス監視および制御機能が装備されています。正確な位置制御とスパッタヘッドのアライメントが可能で、ターゲットが常に処理される基板と適切にアライメントされるようにします。全体的に、903ixスパッタリングシステムは、任意の基板上の任意の材料の均一膜を提供することができる高度なユニットです。精密なプロセス最適化と制御が可能なため、ユーザーは優れた均一性を持つ正確で再現可能な薄膜を実現できます。
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