中古 HITACHI E-1030 #9151980 を販売中

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製造業者
HITACHI
モデル
E-1030
ID: 9151980
Ion sputtering system Stage: Full auto.
HITACHI E-1030スパッタリング装置は、薄膜成膜のための高性能で汎用性の高いシステムです。これは、研究と生産のための費用対効果の高い蒸着ソリューションを提供するために、利用可能な最高のスパッタ蒸着技術を利用しています。このユニットは、高い角度成膜の均一性、優れた制御と再現性、低い運用コスト、優れた成膜速度制御を提供し、幅広い成膜アプリケーションに最適です。E-1030は、2つの回転ターゲットと電子ビームガンからなる3要素のクロススタイルのマシンを使用しています。このツールは、850W DCマグネトロン電源を搭載し、75mmのエンドホールマグネットを使用しています。磁石構造は、ターゲット表面に近い高密度プラズマを維持するように設計されており、広い空間領域に均一なスパッタリングを提供します。制御アセットは、圧力、ガスの流れ、プラズマ電力などのプロセスパラメータを正確に制御します。HITACHI E-1030の真空チャンバーはステンレス製で、10〜7トーラーの基圧を維持する高性能イオンゲージを備えています。また、成膜プロセスを自動化し、貴重な時間を節約するトップローディング治具とサンプルマスクを備えています。サンプルマスク機能により、堆積厚、形状、サイズを正確に制御できます。E-1030はまたWIGの暖房源および装置が500°C。までの温度で材料を沈殿させることを可能にする底入口のスリラーが装備されています。これにより、ソフトフィルムとハードフィルムの両方の成膜に適したシステムとなります。このユニットはまた、フィルムの知覚劣化なしに最大50ミクロンの厚さで誘電体と金属膜を堆積することができます。HITACHI E-1030は、1つのコンパクトなパッケージで、精度、信頼性、柔軟性を提供します。半導体、光学、センサ、MEMS、エネルギー関連分野など幅広い用途に適した汎用性の高い蒸着機です。セットアップと操作が簡単なユーザーフレンドリーなツールで、研究環境と生産環境の両方に最適です。
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