中古 FHR Line 1100 V #9257517 を販売中
この商品は既に販売済みのようです。下記の同じようなプロダクトを点検するか、または私達に連絡すれば私達のベテランのチームはあなたのためのそれを見つけます。
販売された
ID: 9257517
Inline sputtering system
Deposition of dielectric coatings: 7° front side
Modules:
Module 1: Loading station
Module 2: Input load lock
Module 3: Buffer chamber 1
Module 4: Transfer chamber
Module 5:
Process chamber 1: Etching and sputtering
Module 6:
Process chamber 2: Sputtering
Module 7:
Process chamber 3: Sputtering
Module 8: Transfer chamber
Module 9: Output load lock
Module 10: Unloading station
Substrate load / unload module using (2) KUKA robots
Vacuum:
End pressure: ≤2 x 10^-6 mbar after 8 hours
End pressure: ≤1.5 x 10^-6 mbar after 12 hours
Chambers:
Stainless steel vacuum chamber
Powder coated mild steel chamber frame
Pneumatic gate valves
Modules includes:
Turbo molecular pump: DN 250 ISO-K
View port: DN 100
Front service flange
Flap valves VAT
Rotary dry pump: 300 m³/h and 250 m³/h
Roots pump: 1000 m³/h
1900 Is^-1 for N2 and ca 1400 I/s for N2
Gate valves DN 250
Meissner trap with cryo generator
(6) Pirani gauges fore vacuum sensors: 1000 mbar - 10^-3 mbar
(8) Penning high vacuum sensors: 10^-3 mbar - 10^-8 mbar
(13) Baratrons MKS 627: 10^-1 mbar - 10^-4 mbar
Upstream pressure regulation
Atmospheric pressure sensors
Heater
Vacuum gauges
Inverted magnetron plasma source:
Target length: ~39"
Planar sputtering cathodes:
(10) Cathodes
Target length: 39"
Target substrate distance: 4"
Rotatable sputtering cathodes:
(10) Cathodes
SCI
Type: MC-End block
Target length: 39"
Backing tube diameter: 5"
Target substrate distance: 4"
Gas admission system:
MFC for Ar each sputtering source
Gas lines for 5N purity
Power supplies:
High voltage power supply for inverted magnetron plasma source
DC AE Power supply: ≥1 kW
DC AE Power supply: 2 x 6 kW
DC AE Power supply: 30 kW
(5) DC AE Power supply: 2 x 10 kW
Control and visualization:
PC Surface
Operating system: Windows 7 Professional
PLC General control
Cooling water:
Power supplies (PSU)
Cathode
Cathode surrounds cooled by water loops
Power supplies:
Aggregate connection: 3 / N / PE AC 380 V / 50 Hz
Voltage: 24 V.
FHRライン1100 Vスパッタリング装置は、さまざまな基板に薄膜を堆積するように設計された汎用性と信頼性の高いコーティングシステムです。金属、セラミック、酸化物、その他の化合物など、さまざまな材料の生産に適しています。1250×1100mmまでの表面積をコーティングすることができる生産性の高いユニットです。ライン1100 Vは真空密閉チャンバーで、最高品質のフィルムを製造するための適切な環境を維持することができます。このチャンバーにはプロセスガス入口と出口があり、スパッタリングを成功させるために必要なガスと蒸気の導入が可能です。このマシンは、3〜6 kWの高出力を念頭に置いて設計されています。また、コンピュータ制御の電圧マッピングやモノラルまたはデュアルコンポーネントモードでフィルムを転送する機能など、高精度で反復可能なスパッタリング用に設計されています。さらに、1100Vは、反応スパッタリング、パッシブスパッタリング、および様々なフレークおよび粉末材料の堆積方法を実行することができます。FHR Line 1100 Vは、蒸着プロセス中に基板に供給されるエネルギー量を微調整することができます。コンピュータ制御の電圧や電流マッピングなどの機能により、薄膜の蒸着時に高精度で再現性が維持されます。スパッタリングされたフィルムは、精密な膜層厚を可能にするツールの効率的な設計と出力により、非常に均一です。このアセットはまた、グラフィカルな処理ユニットと柔軟なプログラミングオプションを備えたソフトウェアスイートを備えた強力で統合された制御モデルを提供します。これにより、プロセスパラメータのリアルタイム自動監視などの正確な結果と機能を使用して、プロセスパラメータを微調整できます。また、1100 Vラインにはフォルトファインディング診断機能が内蔵されているため、プロセスの問題のトラブルシューティングが容易になります。全体的に、FHR Line 1100 Vは、再現性と正確な結果を保証する機能を備えた、幅広い薄膜成膜プロセスに最適なソリューションです。その強力な制御システムと一貫した性能により、多くの生産プロセスにとって貴重な設備となります。
まだレビューはありません