中古 EVATEC Radiance #9130079 を販売中

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ID: 9130079
ヴィンテージ: 2010
Sputtering deposition system Load lock and handling system Transfer module Single target Temperature: 10-50 degree C Relative humidity: 30-80% Shared fore line pump: EDWARDS GX100L LL TMC Pump: PFEIFFER TMH261 TC TMC Pump: PFEIFFER TMH521 (2) Batch process modules (BPM) Process chamber Turn table Wafer chucks Shared Fore line pump: EDWARDS GX100L Turbo pump: PFEIFFER Highpace 2301 CTI Inline water pump Chamber conditioning unit Baratron process gas measurement gauge Base pressure: <9E-8 mbar (2) Process sources SSC 300 Planar magnetron SSC300 (1) DC Power supply 5kW (3) Mass flow controllers Rack cabinet Control system Chamber shield for each process module 80-100 A, 50 Hz, 1200 VAC 2010 vintage.
エバテック・ラディエンス(EVATEC Radiance)は、株式会社エバテックのスパッタリング装置です。これは、薄膜の生産のための高スループットスパッタリングを提供するように設計されています。ラディエンスシステムは、ダイオードと三極スパッタ構成のマグネトロンスパッタリングを利用して、スパッタリングの伝統的な方法を利用しています。これは、平面と円柱の両方の堆積のための回転および静止ターゲットの広い範囲を提供しています。EVATECラディエンスユニットは、金属、合金、酸化物、窒化物、およびアモルファス材料を含むさまざまな材料を堆積する能力を提供します。生産の温度較差は室温から400°Cまであります。ラディエンスマシンは、フィルム、マルチレイヤー、蒸気分散層などのすべての材料形態を堆積することができます。また、線と空間幅が限られた細かい特徴とナノ構造を作成するために使用することができます。このツールは、高アスペクト比の堆積に適しており、さまざまな方法で堆積ターゲットを配置することができます。EVATEC Radianceアセットは、蒸着チャンバ内のガス流量を正確に制御する高度なセンサ技術も提供しています。これにより、チャンバー内のガス混合物の均一な分布が保証されます。高度なセンシング技術は、より均一なフィルムを作成するために正確な温度制御を可能にする温度センシング機能を提供します。また、高度なセンサ技術により、より高速な蒸着と高いスループット速度を実現します。Radianceモデルはリモートコントロール機能も備えており、ユーザーは機器を遠隔で制御および監視することができます。これには、蒸着速度、蒸着時間、ターゲットのモーションコントロールの監視が含まれます。EVATEC Radianceシステムには、操作パラメータ、ターゲット選択、レシピなどのパラメータを設定するために使用されるヒューマンマシンインターフェイス(HMI)も装備されています。全体的に、ラディエンススパッタリングユニットは、薄膜製造に最適なさまざまな機能と機能を提供します。それは生産および研究の適用のために設計され、ユーザーに精密な制御および大きい性能を与えます。
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