中古 CANON / ANELVA ILC 1060 #9175336 を販売中
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販売された
ID: 9175336
PVD Sputtering system, 5"
Process: SiO2
Chambers:
(3) SP
Etch
Heat
L1-Chamber configuration:
Process: Etch
Exhaust pump: TG-550
Power unit model: VMA-1
1kW (RF)
Shield: φ5 Standard
Holder type: Upthrust pin
Process gas / Ar: 100sccm
Baratron: 690A01TRC
Gate valve
No MV lock method
No shutter method
No shield temperature control
No Q-UHV
No analyzer tube
L2-Chamber configuration:
Process: Wsi
Exhaust pump: Torr8
Power unit model: PDC-157E
15kW (DC)
Cathode Mg: Wsi8/6-1
Shield: Top / Bottom exhaust
SP Chuck type: 99% Ring chuck
Holder type: Top / Bottom clutch
Heating temperature: 400°C
Heating type: Ceramic heater
Heating method: Gas heating
Process gas / Ar: 100sccm
Baratron: 690A01TRC
Gate valve
No MV lock method
No shutter method
No shield temperature control
No Q-UHV
No analyzer tube
C-Chamber configuration:
Process: Ti
Exhaust pump: Torr8
Power unit model: PDC-157E
15kW (DC)
Cathode Mg: Ti8-1
Shield: Top / Bottom exhaust
SP Chuck type: 99% Ring chuck
Holder type: Top / Bottom clutch
Heating temperature: 400°C
Heating type: Ceramic heater
Heating method: Gas heating
Process gas / Ar: 100 sccm
Baratron: 690A01TRC
Gate valve
No MV Lock method
No shutter method
No shield temperature control
No Q-UHV
No analyzer tube
R2-Chamber configuration:
Process: TiN
Exhaust pump: Torr8
Power unit model: PDC-157E
15kW (DC)
Cathode Mg: TiN8-1
Shield: Top / Bottom exhaust
SP Chuck type: 99% Ring chuck
Holder type: Upthrust pin
Heating temperature: 400°C
Heating type: Ceramic heater
Heating method: Gas heating
Process gas / Ar: 100 sccm
Process gas / N2: 100 sccm
Baratron: 690A01TRC
Gate valve
No MV Lock method
No shutter method
No shield temperature control
No Q-UHV
No analyzer tube
R1-Chamber configuration:
Holder type: Top / Bottom clutch
Heating temperature: 400°C
Heating type: Lamp heater
Heating method: Radiation heating
Cables missing
1994 vintage.
キヤノン/ANELVA ILC 1060は、高度に制御された効率的なスパッタリング技術を利用したスパッタリング装置です。このシステムは、さまざまな基板上に薄膜を堆積させることを可能にし、半導体、光学、および生物医学産業で広く使用されてきました。CANON ILC 1060は、メインチャンバー、2つのトランスファーチャンバー、プレスパッタチャンバー、サーマルスパッタチャンバーで構成されています。主なチャンバーは、ほとんどのスパッタリングが行われる場所であり、ダイオードマグネトロンとスパッタカソード標的が装備されています。ダイオードマグネトロンを使用すると、スパッタガスをイオン化し、ターゲットを回転または振動させて均一な蒸着を実現できます。真空はチャンバー内で維持され、統合されたターボ分子ポンピングユニットで制御されます。トランスファーチャンバーには、KFとKHMの2つのプラズマ源とロードロックが含まれており、メインチャンバーからの基板の制御転送を提供します。一方、プレスパッタチャンバーは、サンプルがメインチャンバーに入る前に表面汚染物質を破壊するために使用されます。最後に、熱スパッタチャンバーは、無線周波数プラズマ源のアプリケーションによって、材料を蒸発させるために使用されます。ANELVA ILC-1060は、デジタル信号処理ユニットまたはDSPユニットを搭載しており、プラズマを生成し、スパッタ処理に必要なさまざまなサポートシステムを生成します。DSPユニットは、スパッタ圧力、チャンバー温度、ガス組成を制御する責任があります。さらに、DSPユニットは、過熱保護、過電流保護、磁場保護などのさまざまな安全機能を提供します。ILC 1060を動作させるには、さまざまなパラメータを設定する必要があります。ユーザーは、基板温度、スパッタ出力、スパッタ圧力、スパッタ時間、周波数、ターゲットを指定する必要があります。さらに、マシンはプリセットパラメータで自動的にプログラムされる能力を持っています。CANON/ANELVA ILC-1060はパワフルで効率的なスパッタリングツールです。さまざまな基板に薄膜を堆積させることができ、柔軟性と制御性をユーザーに提供します。そのため、特定の用途でスパッタ処理を利用することを検討している人にとっては理想的な選択肢です。
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