中古 CANON / ANELVA ILC 1013 #9130606 を販売中

この商品は既に販売済みのようです。下記の同じようなプロダクトを点検するか、または私達に連絡すれば私達のベテランのチームはあなたのためのそれを見つけます。

CANON / ANELVA ILC 1013
販売された
ID: 9130606
ウェーハサイズ: 5"
In-line sputtering systems, 5".
CANON/ANELVA ILC 1013は、薄い層の材料を基板に塗布するために使用されるスパッタ成膜装置です。あらゆる基板上に材料を高精度に蒸着できる低温高効率システムです。CANON ILC 1013は、誘電体スパッタターゲットチャンバーを備えたベースユニットと、イオン源と基板ホルダーで構成されています。ベースユニットは、蒸着プロセスを容易にするために超高真空環境を備えています。この真空環境は安定して維持され、一連の測定および制御システムと一貫しています。イオン源は、エネルギッシュなイオンで材料を爆撃するために使用されるイオン銃です。この爆撃は、ターゲットの材料の物理的なスパッタリングを容易にします。イオン源のパワーを正確に調整して、望ましい蒸着速度を達成することができます。基板ホルダーは、基板のアライメントと位置決めを可能にします。基板への材料の最適なスパッタリングを可能にします。基板とターゲット間の圧力、温度、距離を制御して、一貫した堆積結果を得ることができます。スパッタされた材料層は、基板上に堆積されます。このプロセスには、フィルムと基板の間の良好な接着、均質な沈着、高い沈着率など、多くの利点があります。さらに、ANELVA ILC 1013はナノスケール系への堆積が可能です。これにより、ILC 1013は、医療、エレクトロニクス、航空宇宙、自動車などの幅広い産業での使用に最適です。結論として、CANON/ANELVA ILC 1013は、あらゆる基板上に薄い層の材料を堆積することができる強力なユニットです。超高真空機械により、安定した精密な蒸着が可能です。基板とターゲット間の圧力、温度、距離などの要因を正確に制御できるため、フィルム欠陥を防止しながら高精度の蒸着が可能です。これにより、CANON ILC 1013は、低温で高効率のスパッタリング成膜をお探しの方に最適です。
まだレビューはありません