中古 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse #166464 を販売中

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipseは、半導体デバイスやMEMの製造に使用されるスパッタリング装置です。このシステムは、ダイレクトスパッタリングツールと間接スパッタリングツールの両方で構成されており、ドーピング、薄膜成膜、エッチングなどの用途に最適です。ダイレクトスパッタリングツールはマグネトロンスパッタリングを採用し、磁場を使用して不活性ガスをイオン化および加速し、ターゲットから材料を基板にスパッタするプラズマを作成します。このスパッタ方式は高効率で、少量生産に最適です。間接スパッタリングツールは、リール-リール蒸着チャンバを使用して、回転ターゲットから基板上に材料をスパッタします。この方法は、ターゲットを素早く簡単に交換できるため、大規模で均一で高品質な薄膜成膜に使用できます。どちらのサービスにも複数のプロセスレシピがあり、ニーズに合わせて簡単にカスタマイズと最適化が可能です。スパッタリングユニットはまた、ユーザーがプロセスの安定性を監視し、一定で一貫したウェーハ処理を確実にすることができるコントロールパネルとソフトウェアを使用しています。MRC Eclipseは、アルゴンと窒素ベースのスパッタリングの両方が可能で、優れた材料選択性を可能にします。この機械は、スパッタリングチャンバー内のターゲットと基板の簡単かつ正確な位置決めを可能にする自動アライメント機能を備えています。さらに、TEL Eclipseは、反応スパッタリング、イオンソース、静電チャックなど、さまざまなオプションモジュールと互換性があります。これにより、柔軟性と精度が向上し、さまざまなプロセス要件に対応できます。このツールはまた、生産性を向上させ、疲労を軽減するように設計された完全に自動化されたウェーハハンドリングアセットを提供します。このモデルは、事前にプログラムされたスパッタリング手順を可能にし、手動で介入する必要なく実行します。Eclipseは、最新のスパッタリング技術と直感的なソフトウェアを組み合わせることで、さまざまなプロセスのニーズに対応できる信頼性の高い効率的なスパッタリング装置を提供します。少量生産、精密アライメント、自動ウェハハンドリングなどの高度な機能を備えたTOKYO ELECTRON Eclipseは、業界の専門家にとって理想的なスパッタリングオプションです。