中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #9309550 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254は、半導体、光学および高度なセラミック産業の専門家のために設計された最先端の化学蒸着（CVD）炉です。このツールは、シリコン、酸化物、窒化物などの材料の高純度および超高純度層を処理する際の最大の効率、安全性、信頼性を目的に設計されています。それは1200°Fまで働く温度の下で作動できます。AMAT 0010-03254は広範囲のリアクタントを可能にするガス供給装置を利用します。このツールは、基板にリアクタントを供給し、特定の加熱および制御機能も提供します。例えば、チップの温度は、所望の結果を達成するために必要に応じて正確に監視され、調整されます。その他の機能としては、RFジェネレータ、電源制御および温度制御モジュール、およびLCDディスプレイがあります。原子炉には、基板上の均一な層の厚さを保証するトップダウン直接蒸着システムも装備されています。このユニットは、酸化を防ぎ、一貫した品質のフィルム層を保証する高品質の水晶カバーで作られています。さらに、水晶カバーはまた機械に入る汚染物の粒子の危険を減らすのを助けます。応用材料0010-03254に最小限の床面積を要求するコンパクトな設計があります。このツールは、1つのタッチパネルを使用して操作され、プログラミングを簡素化し、ユーザーフレンドリーにします。これにより、外部に特化した制御システムが不要になります。リアクターは、追加の自動化ツールと統合することができ、オプトエレクトロニクス処理のための線形およびモジュラー接続を提供します。それはまた入口ガスの配分の純度を最大にする部屋ガスのスクラバーを提供します。全体として、0010-03254は信頼性が高く効率的なCVD炉をお探しの方に最適です。これは安全で効率的な操作のために設計されており、業界の専門家が要求の厳しいアプリケーションのために高品質のフィルム層を生成することができます。また、コストを削減し、時間を節約し、高度な技術を活用するために探している人のための優れたオプションです。