中古 PHILIPS / FEI Nova NanoLab 600 #9261304 を販売中

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ID: 9261304
ヴィンテージ: 2004
Dual beam FIB FEG-SEM system TEM Sample prep Nano characterization Stencil mask fabrication Magnum ion column: 5-7 nm Resolution, 5-30 kV Detector: TLD-SE, TLD-BSE, CDEM, IR-CCD GIS: PT, TEOS OMNIPROBE (Analog system) Includes: Auto slice and view Auto TEM Auto FIB NPGS Lithography 2004 vintage.
PHILIPS/FEI Nova NanoLab 600は、さまざまなナノ加工用途向けに設計されたデュアルビーム、イオンフライス装置です。高度な光学設計により、3次元の強烈なイオンのビームを正確に供給することができます。このシステムは、集積静電ビーム偏向ユニットを使用して、ビームをサンプル表面上の任意のターゲットに正確に配置します。NanoLab 600で使用されるイオンビームは、金属またはガスのイオン源で構成することができるイオン源によって生成されます。金属イオン源は、DCアークを使用して、タングステンや金などの低エネルギーの金属イオンビームを生成し、高アスペクト比エッチングまたはナノミリングに使用できます。ガスイオン源はRFプラズマを使用してガスイオンビームを生成し、高精度パターニングやナノインプレッションアプリケーションに使用できます。NanoLab 600は、エッチング前後のサンプルの半導体分析を可能にする強力な分析装置を内蔵しています。このツールは、統合スキャン電子顕微鏡(SEM)、電子後方散乱回折(EBSD)、エネルギー分散X線分析(EDX)、および伝送電子顕微鏡(TEM)を使用して、エッチングプロセスをより正確に特性化および制御します。統合されたSEMは、エッチング中のサンプルの現場観察にも使用できます。NanoLab 600は直感的な制御インターフェースを備えており、アセットのセットアップと操作を簡単に行えます。ユーザーは、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを使用して、エッチングやフライス加工など、さまざまなナノ加工タスクをプログラムできます。このモデルはまた、エッチング処理のリアルタイム解析と、さらなる分析のためのポストプロセッシングツールのスイートも提供します。NanoLab 600は、優れたイオンフライス加工とナノ加工機能を提供する強力な機器です。半導体デバイス製造、ナノテクノロジー、マイクロエレクトロメカニカルシステム(MEMS)など、さまざまな用途に使用できます。統合された分析システム、直感的なユーザーインターフェイス、幅広い機能により、ナノ加工アプリケーションに最適です。
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