中古 NOVELLUS CONCEPT One #150904 を販売中

NOVELLUS CONCEPT ONEは、薄くて均一なフィルムを大量に生産するために設計された最先端の先端原子層成膜（ALD）原子炉です。原子炉は、高度な電子機器の商業製造のための有効なプラットフォームです。大型基板ホルダーを備えたハイスループットチャンバーを備えています。これにより、メモリデバイス、エラストマー、センサーなど、幅広い半導体材料やデバイスの生産が可能になります。ALDは、電子部品の製造に使用される高度な薄膜蒸着プロセスです。ALDプロセスは、材料の原子層を基板材料の地形に1つずつ堆積させるために使用されます。この制御レベルにより、広範囲にわたって極めて精密で均一な薄膜蒸着が可能です。ALDは薄膜トランジスタ、メモリデバイス、発光器、微細加工アクチュエータの製造に最適です。NOVELLUS CONCEPT ONEは、カスタムデザインのALDリアクターです。1時間あたり最大100個のウェーハを処理でき、特定のフィルム製剤を適用することができます。ウェーハからウェーハまでの厚さ制御、最大0。2nm、不揮発性メモリを一貫して提供し、プロセス開発を容易にします。コンセプトワンは、原子炉ヘッド、原子炉室、コンピュータ制御バルブ、輸送システムの4つの主要コンポーネントで構成されています。反応器の頭部は電流の流れを沈殿させ、制御するのに使用される陰極および陽極を握ります。原子炉室は基板が配置されており、原子炉室内に原子炉を注入するガス供給システムが含まれています。バルブはガスの流れを制御し、コンピュータによって監視および調整されます。最後に、輸送システムは、超均一な速度と温度制御のために原子炉を介して基板を移動します。CONCEPT ONEは、金属、酸化物、窒化物、太陽電池材料、CIGS、 CIS、その他の先端半導体材料などの幅広い半導体材料を含む様々な材料を堆積することができます。これにより、センサや半導体デバイスなど、幅広い先端電子製品の生産が可能になります。結論として、NOVELLUS CONCEPT Oneは、超薄型および均一なフィルムの大量生産用に設計された先進的なALD原子炉です。その特徴は、高スループット、一貫したウェーハ間厚さ制御、および幅広い材料を処理する能力です。これにより、幅広い先端電子部品の商用製造が可能となりました。