中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9056591 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、半導体製造に特化した最先端のプラズマエッチング炉です。AMAT P-5000は、より高いスループット、より速いウェーハローディング、改善された安全機能、および以前のP3000より長いチャンバー寿命を提供します。アプライドマテリアルズP 5000は、高度に最適化された電子サイクロトロン共鳴（ECR）または誘導結合プラズマ（ICP）源を備えた先進的なプラズマエッチング炉で、重要な半導体プロセスに優れたエッチング率と優れたプロファイルを提供します。最大250nm/minのエッチングレートに達することができ、効率的なスループットとプロセスサイクルのターンアラウンドタイムの短縮を可能にします。P 5000は、高度な安全機能と、業界をリードする環境保護を提供する優れた排気システムで設計されています。ドライポンプ装置は排気ガスの連続的な清潔さを保証し、チャンバー内の僅かな酸素含有量を低減します。マルチレベルの安全管理システムにより、原子炉のスムーズで安全な起動が可能です。さらに、窓のドアは、低圧プラズマへの偶発的な暴露を防ぐ安全インターロックユニットを備えています。アプライドマテリアルズP-5000は、優れたウェハローディングとハンドリング機能を提供します。全自動ロボットマシンを搭載しており、高速で信頼性が高く、繰り返し可能なウェハローディングとアンロードが可能です。ロボットトランスファーアームは、プロセスチャンバーへの有害な人体暴露を排除し、高度なコントローラにより、チャンバー内のウェーハの正確なアライメントを可能にします。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000リアクターはまた、高度な材料とコーティングを使用することにより、より長いチャンバー寿命を提供し、その結果、堅牢性が向上し、メンテナンス要件が低減されます。使用される先進材料は、腐食、酸化、腐食に対して非常に耐性があり、信頼性の高いエッチングプロセスと長い耐用年数を保証します。さらに、AMAT P 5000には、高出力プロセスと優れた温度制御をサポートする、水と窒素ジェットを備えた高効率の冷却ツールが含まれています。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は、優れた安全機能、最適化されたウェーハの読み込みと取り扱い、およびより長いチャンバー寿命で設計された、半導体製造のための汎用性の高いプラズマエッチング炉です。より高いスループットと迅速なプロセスサイクル時間を提供し、最新の生産要件に最適なソリューションです。