中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9052241 を販売中

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ID: 9052241
CVD System, 8" Process: SIO Process chamber: Chamber A, B: SIO Chamber D: ETCH Chamber version: Chamber A & B: Standard VAT ISO valve Chamber D: Standard RF Generator type: Chamber A & B: OEM-12B Dry pump type: Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J Throttle valve type: Chamber A, B & D: Non heated VME System: 20 Slots CPU: Synergy Video: VGA SEI AI AO (4) DI/DO (4) Steppers Hard Disk Drive (HDD) Floppy Disk Drive (FDD), 3.5" Manometer type: Chamber A & B: MKS 122B 11441 Chamber D: MKS 127AA RF Matching box type: Chamber A & B: 0010-09750D DR Chamber D: 0010-09416 Turbo pump type: Chamber D: LEYBOLD NT340M System electronic type: (2) TC Gauges Buffer I/O AI MUX (2) OPTO (4) Choppers +12VPS +15VPS -15VPS Storage elevator: 8 Slots Cassette handler: Phase III, top clamp Robot: Phase III Blade: Phase III I/O Wafer sensor Load lock purge Heat exchanger: AMAT0: Connect to chamber A, B & D: Wall / LID Main frame front type: Through-the-wall Standard remote frame TC Gauge type: Chamber-A Rough: VCR Chamber-B Rough: VCR Chamber-D Rough: VCR L/L Rough: VCR L/L Chamber: VCR Lamp module type: Chamber A & B: STD 0010-09337 Mini-con Magnet driver type: Chamber A: P/N 0015-09091 Chamber B: P/N 0015-09573 Chamber C: P/N 0015-70060 Gas panel type: (28) Gases Signal tower MFC Type (Main): Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400 A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400 D / O2 / 100 / N2 / STEC / SEC-4400 D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 MFC Type (Remote): Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model B / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400 D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、マイクロエレクトロニクスデバイスの製造を支援するために設計された物理蒸着(PVD)原子炉です。非常に小さなフットプリントに精密な量の材料を堆積させるように設計されており、半導体デバイスの製造において貴重なツールとなっています。AMAT P-5000は、銅、アルミニウム、タングステン、金などの材料をシリコンやヒ素ガリウムなどの基板に堆積させることができます。応用材料P 5000は材料の沈着のためにアークの蒸発、か陰極アークの蒸発を、利用します。このプロセスには、アーク放電を放出し、アノードの表面から材料を脱落させ、真空中で蒸発させる高通電アノードが含まれます。この蒸気は基板に向けられ、非常に均一な堆積物を形成します。この装置は、異なる基板のさまざまな要件に対応するように設計されており、均一な蒸着速度を確保するために常に監視されています。P-5000は最大4つの陰極ターゲットを収容し、1つのチャンバーに複数の材料を堆積することができます。また「、サイドマルチ」機能を使用して、基板の両側に堆積することができ、2番目のチャンバーまたは追加のツーリングの必要性を排除します。このシステムには、in-situ 5軸交換器も含まれており、基板を回転させてあらゆる方向に均一な蒸着を可能にすることができます。P 5000にはロードロックユニットが装備されており、1時間あたり最大7,000ウェーハの出力レートを実現します。また、直径25mmから300mmまでの基板にも対応可能です。独自のオートウェーハトラッカーにより、不規則な形状の基板でも堆積することができます。APPLIED MATERIALS P5000は、高効率生産の問題を防止するために、プロセスパラメータの監視を維持する複数のセンサ/監視/プログラマブル論理制御(PLC)メソッドをサポートしています。使用される最も一般的なプロセス制御技術のいくつかは、光放射分光法(OES)、電気化学ポテンシャル(ECP)、および温度プロファイルです。このマシンは、オンラインプロセスへの遠隔アクセスと監視も可能で、ダウンタイムの削減と生産性の向上に役立ちます。結論として、AMAT/APPLIED MATERIALTS P 5000は、マイクロエレクトロニクス基板への材料の堆積を支援するために設計された、高度で信頼性の高いPVD炉です。精度、速度、および複数のプロセス制御方法により、半導体デバイスの製造に有用なツールとなっています。
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