中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9051354 を販売中
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販売された
ID: 9051354
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1991
CVD system, 6"
(2) Chambers
Vacuum processing type
Wafer type: Notch
MFC:
Gas #1: N2 1 slm
Gas #2: C2F6 1 slm
Gas #3: HE 1 slm
Gas #4: N2 1 slm
Gas #5: N2 1 slm
Gas #6: N2 1 slm
Gas #7: N2 3 slm
Gas #8: HE 1 slm
Gauge:
MKS 122BA Baratron, 100 torr
MKS 626A Baratron, 100 pa
Includes:
(2) AD Tec generators AX-1000 II
(2) AMAT Matchers
AC Rack
Gas box
(2) Chemical boxes
DEFENSA UPS1010
Heat exchanger
FUJI ELECTRIC Transformer
Main frame
1991 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、高精度、高性能、シングルウェーハ熱処理炉です。半導体、MEMS、その他の先端材料産業におけるバッチプロセス用に設計されています。統合部品の製造におけるAMAT P-5000の精度、スループット、および精度は、クリスタルウェーハおよび半導体材料を製造するための強力で費用対効果の高いツールです。原子炉は、プロセス室と圧力室の2つの主要なコンポーネントで構成されています。プロセスチャンバーには、均質な加熱および冷却のための回転サセプターと、正確なガス調節のためのガスインジェクタがあります。圧力チャンバーには圧力レギュレータと300ミリバーガス供給装置が収納されています。ガスデリバリーシステムは、低圧安定性を維持しながら、プロセスガスと温度の非常に正確なレギュレーションを提供するように設計されています。APPLIED MATERIALTS P 5000リアクターには、特許取得済みのフラメアウトユニットも装備されています。このマシンは、プロセスパラメータを測定し、高度なフィードバック制御と診断を提供します。このツールは、プロセスの不安定性から保護し、最適なプロセスのパフォーマンスを確保するのに役立ちます。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000原子炉は、ヒ素ガリウム、石英、窒化ガリウム、炭化ケイ素、III-V化合物など、さまざまな材料を処理することができます。プロセスは1つのmbarから900 mbarまで及ぶ高温、急速な冷却およびプロセス圧力を達成するように設計されています。さらにAMAT/APPLIED MATERIALS P 5000は、プラズマ強化化学蒸着、原子層蒸着、ナノスケールパターニング技術を備えており、高度に統合された部品を製造しています。安全性と信頼性の面では、P 5000原子炉は標準を設定します。圧力モニター、真空ロックバルブ、水素フローバルブ、高圧排気漏れ検出器など、完全な安全資産で設計されています。この原子炉には、デュアルトラックのシングルステッププロセスコントローラと、プロセスの安定性を確保するための温度制御安全シャットオフモデルも備えています。最終的に、APPLIED MATERIALS P5000リアクターは、水晶ウェーハおよび半導体材料を製造するための高度で信頼性が高く、費用対効果の高いツールです。その精度、スループット、精度が組み合わさり、設計エンジニアや製造の専門家にとって非常に貴重なツールになります。
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