中古 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9278707 を販売中

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000は、さまざまなデバイスの製造をサポートするフォトレジスト機器です。このシステムは、光で照らされたときに反応するフォトレジストと呼ばれる液体化合物を使用しています。光はフォトレジスト素材を選択的に露出し、コンピュータ制御の光ビームを使用してフォトレジスト層のパターンを達成することができます。FSI Polaris 2000は精度の点で無数の設計の生産のために適している紫外露出用具です。このユニットは、あらゆる種類のマイクロエレクトロニクスデバイスを製造するのに理想的な選択肢であり、最大300 mW/cm²の紫外レーザー出力によるリソグラフィ性能を備えています。このツールには、真の2次元内部ウェーハステージ、Zステージ、回転ステージ、自動露出または手動露出、湿度制御ユニットなどの高度な制御機能が装備されています。また、ダークフィールドツール、各種フォーカス開発技術、膜厚制御、強化プロセス制御など、さまざまな自動プロセス制御機能を搭載しています。TEL Polaris 2000は、このフォトレジスト添加剤アプローチを使用してパターンを開発する際の柔軟性を提供するステッピングツールとしても使用できます。このアセットにより、1つのマスクウエハを利用した複数のパターンの生成や、幅広い基板やデバイスジオメトリの高精度パターニングが可能になります。このツールに内蔵されている自動アライメント機能により、1つのウェハ上で複数のレイヤーをより正確にアライメントできます。フォトレジストモデルに最適な作業条件を維持することに関しては、Polaris 2000はさまざまな環境制御機能を提供しています。本装置には湿度・温度制御用のフィルターシステムが内蔵されているほか、外部条件の影響を軽減する振動分離テーブルが内蔵されています。東京電子ポラリス2000は、フォトレジスト開発プロセスの信頼性を最大限に高めるため、定電力監視ユニットとフォーカス比モニタリングマシンを内蔵しています。結論として、FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000は、さまざまなデバイスの製造をサポートするために設計された先進的なフォトレジストツールです。この資産には、汎用性の高いリソグラフィ性能のための高度な制御機能が搭載されています。また、最適な労働条件のための十分な環境制御機能も備えています。このモデルは、パターン開発時に柔軟性と精度を提供するステッピングツールとして使用でき、あらゆる種類のマイクロエレクトロニクス機器に最適です。