中古 DNS / DAINIPPON STM-603-PLS #9121891 を販売中

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DNS / DAINIPPON STM-603-PLS
販売された
ID: 9121891
ウェーハサイズ: 6"
Particle counter, 6".
DNS/DAINIPPON STM-603-PLSは、半導体製造工程の歩留まりと信頼性を高めるために特別に設計された高性能マスクおよびウェハ検査装置です。このシステムには、革新的な光学技術であるシリコンエッジセンサー2が搭載されており、優れた性能と臨界エッジ構造の非常に正確な測定を提供します。このユニットには強力なソフトウェアが装備されており、製造プロセスの潜在的な欠陥を簡単に特定して特定することができます。このマシンはユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスを備えているため、メニューや機能や機能に簡単にアクセスできます。フォトレジスト、粒度、線幅の粗さ、放物線照明、非接触測定、およびその他のエッジ間の構造の分析など、幅広い特性を測定するために装備されています。DNS STM-603-PLSの高度な光学技術は、小さな欠陥だけでなく、偽のエッジや光の非均一性などの大規模な欠陥を検出する機能を持っています。このツールは、高い検出速度と一定の測定の高度な精度を備えています。さらに、このツールは、自動アライメント技術を使用してマスクパターンの微細な変化を測定する機能を提供します。アセットは、大きな画像メモリで構築されており、ユーザーは同じ欠陥の複数の画像を撮ることができ、関連するすべてのデータが収集され、将来の分析のために保存されることを保証します。さらに、このモデルには、パターン依存のアーティファクトやその他の不要な機能を識別するために、マスクパターンのさまざまなフィールドで画像データを測定および分析できるソフトウェアが含まれています。このソフトウェアはまた、統計を持つダイナミックチャートとSPCチャートを生成することができます。DAINIPPON STM-603-PLSは、低コストのマスクおよびウェーハ検査でユーザーを支援し、生産コストを削減し、プロセスの信頼性を向上させます。さらに、この装置は、インライン製造の改善または最終プロセス監査のための追加の品質保証ツールとして使用することができます。さらに、生産プロセスの初期段階で潜在的な欠陥を発見することにより、スクラップを削減し、歩留まり率を向上させることができます。全体として、STM-603-PLSは効率的で正確で費用対効果の高いマスクおよびウェーハ検査のためのユーザーフレンドリーなプラットフォームを提供します。これは、高度な分析機能を活用して、半導体製造プロセス内の欠陥を検査および識別するための堅牢なツールを提供することを可能にする強力なソフトウェアを提供します。
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