中古 EPI 930 #9171186 を販売中

EPI 930は、Riber、 Inc。が製造した分子ビームエピタキシー（MBE）装置です。最高品質で極めて精度の高いエピタキシャル材料を育てることができる多柱高真空加工システムです。通常、集積回路、太陽電池、その他の光電子デバイスの製造に使用されます。930は、6列の「ガルウィング」レイアウトを備えており、超格子やヘテロ構造などの多層成長に適しています。列は、さまざまな噴出セル、ソース、銃、バルブがすべてユニットの中心に集中するように配置されています。これにより、すべての試薬は最小限の損失で基板に平行パスを移動することができます。これにより、ユーザーはGaAsやInPなどのさまざまな材料を成長させることができます。このマシンは、コールドトラップとイオンゲッターによって裏打ちされたターボ分子ポンプを使用して絶えず濾過および調整される高真空環境（<1E-9 mbar）を誇っています。これにより、品質と精度を最大化するために、可能な限りクリーンな成長環境が可能になります。さらに、リモートチャンバーのベースモニターにより、平衡圧力が常に維持されます。さらに、低速ポリシリコン源はEPI 930に統合されており、as-grown層のバックグラウンドドーピングをより良く制御することができます。温度を制御し、成長を促進するために、930は低熱質量の電子ビーム蒸発器、負荷ロックされたウェーハヒーター、およびガス投与用具を特色にします。負荷ロックされたウェーハヒーターは基質と直接接触しており、精度と均一な加熱を保証します。700°Cまでの温度が可能で、ユーザーはさまざまな半導体、金属、合金を成長させることができます。さらに、統合されたソフトウェアコントローラにより、単一の中央コンソールから試薬を簡単かつ正確に操作できます。これにより、運用コストの削減と材料廃棄物の削減が可能になります。さらに、EPI 930アセットは、振動のないエアーフローティングファンデーション上に構築されており、モーションベースのエラーを防ぎます。これにより、最高レベルの精度と生産歩留まりが可能になります。全体として、930は高精度の集積回路、太陽電池、光電子デバイスの製造を可能にする高度なマルチコラムMBEモデルです。この装置は、優れた精度と低動作コストでさまざまな材料を製造することができます。