中古 RUDOLPH Waferview 320 #9223167 を販売中

ID: 9223167
ヴィンテージ: 2006
Macro defect inspection system EFEM Load port 2006 vintage.
RUDOLPH Waferview 320は、最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。パフォーマンスの向上、精度の向上、最高レベルの信頼性と生産性を提供します。このシステムは、ウェーハとマスクの両方の微細な欠陥を検出するために、さまざまな高度な光学およびイメージング技術を使用しています。Waferview 320は、10µlからサブミクロンまでの特徴と欠陥特性を検出するために、2次元フライ監視検査ユニットを使用しています。2つの独立した検査ステージを備えており、欠陥のあるマスクとウェーハ機能の同時撮影と処理が可能です。このマシンは、最大25mmの視野をスキャンすることができ、その高解像度光学系は、大小の機能の両方に適しています。RUDOLPH Waferview 320は、CCDとCMOSの両方のデバイスから、マスクとウエハイメージセンサーの両方を統合することができます。Waferview 320には、パフォーマンスと生産性を向上させるための多数の組み込み機能があります。例えば、このツールには、最大の効率と精度で欠陥を検出するように設計されたリアルタイムのインテリジェンス駆動イメージプロセッサが装備されています。また、このアセットには自動最適化機能が搭載されており、プロセスの目的や条件の変化に応じて画像設定の適応とリアルタイム最適化が可能です。RUDOLPH Waferview 320は、ユーザーフレンドリーで直感的なインターフェイスを備えており、リモート設定機能により、検査設定を簡単にカスタマイズできます。さらに、このモデルにはUSB、イーサネット、GPIBなどの幅広い接続オプションがあります。これにより、既存の顧客ITシステムと容易に統合できます。Waferview 320は、ウェーハおよびマスク検査の費用対効果の高いソリューションとして設計されています。最高レベルの生産性、精度、信頼性を提供し、今日のエレクトロニクス生産にとって非常に貴重なツールとなっています。この装置は、ウェーハおよびマスク検査のための効率的で信頼性が高く、費用対効果の高いソリューションとなる高度な機能を備えており、迅速かつ簡単に使用できます。
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