中古 OLYMPUS MHL 525 #9195386 を販売中

OLYMPUS MHL 525は、半導体ウェーハおよびマスクを迅速かつ正確に検査できることを特徴とするマスクおよびウェーハ検査システムです。このシステムは、高度なイメージング技術を使用して、5000xまでの非常に高い解像度で表面の特徴の微妙な違いを検出します。ウェーハ表面をはじめとする各種基板上のパターンを最大限の精度で検査できるように設計されています。OLYMPUS MHL-525は特徴サイズの0。6マイクロメートルまで表面を検出できるパターン認識ソフトウェアエンジンを利用します。1つの検査サイクルで、最大直径300mmの大きなウェーハ表面をスキャンできます。また、表面特性のわずかな変動を検出するために、高精度の光学センサを備えています。例えば、それは単一の欠落または異常に変位した要素を検出することができます。MHL 525はダイレクトイメージングとダイレクトウェハマッピングの両方が可能です。ダイレクトイメージングにより、あらゆる角度や視点から基板を検査できます。ダイレクトウェハマッピングは、詳細な計測データの収集を可能にするため、より正確な検査を可能にします。MHL-525の主なコンポーネントには、広い視野のステレオ顕微鏡、高精細液晶モニター、LEDソース、粒子認識ソフトウェアエンジン、およびギガビットイーサネット接続があります。LCDモニターを使用すると、検査対象物をリアルタイムで表示でき、LEDソースが基板を照らして最適な画像コントラストを実現します。粒子認識ソフトウェアエンジンは、半導体ウェーハとマスクの両方の欠陥を検出することができます。このソフトウェアは、他の種類の微小な不規則性と一緒に0。2 μ mの欠陥を認識することができます。OLYMPUS MHL 525は、さまざまな検査を行うために、多くの解像度と速度設定をサポートしています。検査対象物の速度、形状、サイズを設定、調整することができます。さらに、ユーザーは、オブジェクトのより良い解像度とコントラストを得るために、さまざまなコンポーネントの強度を変更することができます。全体として、OLYMPUS MHL-525は、高効率で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査システムです。最先端の光学技術、高度なソフトウェアアルゴリズム、強力なハードウェアプラットフォームにより、複雑なマスクやウェーハ検査作業に最適です。