中古 OLYMPUS KIF-201 #9271417 を販売中

ID: 9271417
Laser interferometer Monitor and remote is included.
OLYMPUS KIF-201は半導体産業のために設計された一流のマスクおよびウェーハの点検装置です。マスクおよびウェーハ表面の3次元フィーチャーの包括的な地形調査のための最高レベルの精度要件を満たすように設計されています。このシステムは、高度なレーザースキャン技術を組み合わせて、マスクとウェーハ上の3次元機能の高解像度の詳細な画像を直感的なユーザーインターフェイスで生成し、品質管理検査のための強力で効果的なワークフローを作成します。KIF-201は、マスクとウェーハ表面を横切るあらかじめ定義された経路に沿ってスキャンされるレーザースキャニングスリットを使用しており、非常に高精度な測定を可能にします。このスリットは、ヘリウムネオンレーザー光と最大28。2 muWの感度を持つイメージング装置で構成されています。レーザースリットは、最大210 μ mの距離を正確に測定することができ、スキャンラインに沿って最大25万点を記録することができます。この高解像度により、マスクやウェーハ表面で最も複雑な構造を検出することができます。また、OLYMPUS KIF-201は非接触イメージングを備えており、損傷を与えることなく繊細な構造をスキャンすることができます。傷や他の物理的損傷を受けやすい繊細なサンプルに最適です。また、繊細なマスクやウェーハ表面を検査するための再現性と信頼性の高いプロセスを提供します。さらに、KIF-201にはカメラ露出とレーザースキャン速度の両方を管理するためのユニークなマシンがあり、すべての画像と測定が最高品質であることを保証します。また、OLYMPUS KIF-201が提供するイメージングプラットフォームは、強力なユーザーインターフェースを備えており、検査ワークフローのセットアップと操作が容易です。これは、経路を迅速に定義し、イメージキャプチャと測定のパラメータを設定するためのグラフィカルツールで設計されています。検査プロセスも完全に自動化されているため、結果の合計測定期間と精度を完全に制御できます。全体として、KIF-201は半導体業界にとって強力で信頼できるツールです。最先端のレーザースキャン技術と高解像度のイメージングプラットフォームを提供し、正確で詳細かつ再現性のある測定を保証します。また、直感的なユーザーインターフェイスを備えており、迅速なセットアップと検査プロセスの簡単な操作を可能にします。また、非接触イメージングにより、繊細なマスクやウェーハ表面を損傷の危険を冒さずに検査することができます。これらのすべての機能により、OLYMPUS KIF-201は正確で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査に最適です。
まだレビューはありません