中古 NANOMETRICS Nanospec ATF210 #9170904 を販売中

NANOMETRICS Nanospec ATF210は、高性能な半導体製造のために特別に設計された次世代マスクおよびウェーハ検査システムです。具体的には、ATF210を走査型電子顕微鏡（SEM）上に構築し、高精細画像を実現しています。この情報は、製造プロセスにおける製造上の問題またはプロセス関連の欠陥を決定するために必要なデータを半導体メーカーに提供します。このATF210にはユニークな可変圧力段が装備されており、スキャン距離を減らすことができ、電子ビームの歪みを最小限に抑えることができます。この可変圧力段の技術は、他のNANOMETRICSマスクおよびウェーハ検査システムには採用されていません。特殊な可変圧力段は、可能な限り最高の画像鮮明度とサイズ精度を提供します。Nanospec ATF210は、レイアウトパターン、マイクロマスク、フォトマスクの正確かつ詳細な表示を可能にする幅広いイメージング技術を備えています。さらに、ATF210はウェーハスタック内のさまざまな材料層を区別することができます。この貴重な能力は、製造中の半導体デバイス層の開発と最適化を密接にサポートします。NANOMETRICS Nanospec ATF210は、業界最高の解像度を誇っています。SEMでサポートされている高倍率の設定により、ATF210はこれまでにないレベルのディテールで画像をキャプチャできます。画像の解像度が向上することで、標本自体の構造を歪めることなく、標本の最高の特徴を捉えることができます。Nanospec ATF210は、できるだけユーザーフレンドリーに設計されています。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを備えているため、ユーザーはシステム機能や機能にすばやく慣れることができます。さらに、ATF210にはオートフォーカス機能が搭載されており、設置や顕微鏡の準備にかかる時間を短縮できます。NANOMETRICS Nanospec ATF210は、堅牢性と高速性により、大量生産要件にも準拠しています。全体として、Nanospec ATF210は、あらゆる半導体製造環境に対応する優れたマスクおよびウェーハ検査システムです。その堅牢な機能セットと最適化されたスキャン機能は、最も複雑なレイアウトパターン、マイクロマスク、フォトマスクの信頼性と正確なイメージングを提供するように設計されています。さらに、NANOMETRICS Nanospec ATF210は直感的なユーザーインターフェイスを備えており、ユーザーフレンドリーで最高の解像度のイメージング機能により、最適な製造プロセスを確実にするために必要な汎用性をシステムに提供します。