中古 NANOMETRICS M-215 #9121885 を販売中

NANOMETRICS M-215マスクおよびウェーハ検査装置は、集積回路の製造に使用する前に、レチクル、マスク、ウェーハの高速で信頼性の高い自動欠陥検査を提供するように設計されています。このシステムは正確で再現性のある結果をもたらし、メーカーはマスクやウェーハの最小の欠陥を検出することができます。このユニットは、最大5。5ミクロンのスキャン解像度と5ミクロンの画像倍率を備えた高解像度イメージングを提供します。サブミクロン欠陥を検出する機能は、マスクとウェーハの最高品質を保証します。M-215は6x6インチの視野で広い領域をすばやく検査でき、最大0。08平方インチ/秒のスキャン速度を実現します。この速度は、機械の特許取得済みの設計のおかげで可能であり、光学ブリッジを備えているため、レーザーはより少ないステップを踏んでいる間に検査領域を素早く再分解することができます。NANOMETRICS M-215は、世界トップクラスのイメージング機能に加えて、個々の欠陥を迅速かつ正確に識別できる高度な欠陥分類機能を提供します。このツールは、マスキングと偶発的な欠陥の両方をリアルタイムで識別できる動的しきい値アセットを採用しています。また、このモデルには強力な欠陥解析モジュールが搭載されており、欠陥解析結果をさらに洗練させることができます。このモジュールは、ユーザーが効率的に欠陥データを分析し、分類することを可能にする高度なソフトウェアツールと組み合わされています。M-215は信頼性が高く、事実上メンテナンスフリーで動作するように設計されています。温度制御された光学ユニットを内蔵しており、周囲温度に関係なく、イメージングに最適な温度を維持します。その機器内キャリブレーションは、時間の経過とともに一貫した速度とパフォーマンスを保証します。NANOMETRICS M-215は使いやすく、グラフィカルユーザーインターフェイスを提供し、初心者でも迅速にシステムを構成および操作できます。また、検索/フィルタリングオプションも含まれており、対象領域を迅速に分離し、ユーザーの効率をさらに向上させることができます。最後に、M-215は長期的な信頼性のために設計され、0。1％の誤差率で厳しい品質要件を満たすように設計されています。その長期的な信頼性は、長年のトラブルのない運用を保証し、製造業者が最高品質レベルと最も一貫した結果を達成することを可能にします。