中古 CARL ZEISS AIMS 32-193i #9254199 を販売中

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ID: 9254199
Photomask repair system For stepper, 193 nm LITO Grade optics VIS Microscope Illumination unit Interferometer stage ArF Industrial grade Excimer laser Wavelength 193.4 nm Sigma aperture slider: ~100 Sigma apertures SMIF, 8" Handler system TUILASER ExciStar S-Industrial Laser Excimer (Argon fluoride) Wavelength: 193 nm Embedded laser class IV Laser class I Pulsed Wafer equivalent NA: >1 Numerical aperture range: 0.9 - 1.4 scanner NA Sigma range: 0.3 - 0.98 Illumination type: circular and off axis Linear polarization capability Vector effect emulation capability Through pellicle capability Reticle: 6"/250 mil with/without soft pellicle Stepper reduction: 1:4 Measurement field: 10 x 10μm Power supply: 400V 2010 vintage.
CARL ZEISS AIMS 32-193iは、半導体の製造に使用される高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、製造業者がリソグラフィープロセス内の潜在的な問題を特定し、対処するのを助けるように設計されています。検査ユニットは33 「x 33」ステージに構築されており、透明で反復可能な画像を提供するテレセントリック光学マシンを備えています。それにまぶしさを減らし、対照を改善するのを助けるスペクトル照明が付いているLEDの照明器があります。このツールは、高解像度画像用の8メガピクセルカメラとともに、193nmの絞りと高いNA光学を備えています。サイクルタイムを高速化する自動ビジョンアセットを搭載し、高速パターン欠陥検査が可能です。AIMS 32-193iは、オートフォーカス、パターンマッチング、ラインスキャン検査などのモデル機能に簡単にアクセスできる直感的なユーザーインターフェイスを備えています。これは、1%未満の誤差率で、精度と再現性の高いレベルのために設計されています。この装置には、最小の欠陥を検出し、欠陥のないウェーハを確実にする高度な画像処理機能も装備されています。このシステムには、計測機能の包括的なセットなど、幅広い分析ツールが装備されています。計測ツールは、パターンのサイズと形状、およびオーバーレイとプロセスの均一性に関する情報を提供します。また、ウェーハ上の物体間の距離を高精度に測定することができます。全体として、CARL ZEISS AIMS 32-193iは、半導体メーカーがリソグラフィープロセスを改善し、欠陥のないウェーハを確実にするために設計された信頼性の高い強力な検査機です。高速パターン検査が可能で、直感的なユーザーインターフェイスを備えており、ツールの機能に簡単にアクセスできます。また、パターン、オーバーレイ、プロセスの均一性の詳細な分析を提供する堅牢な計測ツールを備えています。この資産は、半導体企業が高品質のウェーハを生産し、製品が厳しい業界基準を満たしていることを保証するのに不可欠です。
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