中古 AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G5 #9194738 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALTS SemVision G5は、欠陥検出とメーカープロセス最適化を最適化するように設計された高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。その高度で自動化された画像キャプチャおよび解析技術により、検出されない可能性のある半導体ウェーハやマスクの微細な欠陥や特徴を検出することができます。G5は、ウェーハおよびマスク表面の精密なイメージングと検査のための完全自動化されたシステムで設計されています。高度なイメージングユニットは、0。04ミクロンまでの解像度で画像をキャプチャし、分析することができます。このマシンは、設計規則とプロセス欠陥/機能を同時に検出することができ、プロセス制御からフォルト絶縁まで、幅広いアプリケーションに最適です。このツールには、自動化された画像キャプチャと分析を可能にする包括的なハードウェアおよびソフトウェアコンポーネントのスイートが装備されています。高度な光検出トンネル（ODT）により、ウェーハおよびマスク表面の高速かつ正確な画像キャプチャと解析が可能です。ODTには、アプリケーションに応じて、上下方向またはサイドビュー方向の画像をキャプチャするように設定できるイメージキャプチャ光学カラムもあります。アセットの高速かつ高精度なイメージングセンサーにより、正確な画像解析が可能です。G5はまた、多くのソフトウェアコンポーネントを備えています。これには、画像の迅速かつ信頼性の高い比較を可能にするスコアリング比較エンジンと、キャプチャされた画像のぼやけを補正できるDefocus Correction Module （DCM）が含まれています。このモデルには包括的なパターンマッチング（CPM）ツールも含まれており、自動的に画像を比較することができます。G5には高度なユーザーインターフェイスもあります。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスにより、簡単なナビゲーションと簡単なデータ入力、および明確なレポート作成が可能です。インターフェイスは高度に構成可能であり、画像キャプチャ、分析、評価プロセスのカスタマイズが可能です。AMAT SemVision G5システムは、パフォーマンス、効率、信頼性を考慮して設計されています。高度な画像キャプチャおよび解析ユニットにより、微細な欠陥や特徴を迅速に検出および修正できます。その直感的なGUIはオペレータに使いやすく、統合されたソフトウェアツールは効率的なワークフローと欠陥と機能の完全な分析を提供します。この強力なマシンは、プロセス制御を最適化し、正確なマスクおよびウェーハ検査を実行するための理想的なソリューションです。