中古 CYMER ELS 6400 #9224613 を販売中

CYMER ELS 6400は半導体およびマイクロエレクトロニクスの製作の適用の使用のために設計されている高エネルギーエキシマレーザーシステムです。それは、通常193nm、単一の波長で紫外線を生成します。レーザーシステムは、レーザー媒体と出力カプラーミラーを含む避難チャンバーである共振器で構成されています。レーザー媒体は、通常、貴ガスと塩化キセノン（XeCl）などのハロゲン化合物の混合物です。この混合物は一連の電気パルスによって励起され、分子は光子を放出する。光子は刺激された放射によって増幅され、共鳴器に入る。共振器の内部では、光子は2つのミラー、または出力カプラーと総反射器の間で前後に跳ね返されます。光子は最終的に出力カプラーミラーに到達し、レンズを終了することができます。共振器から離れると、光子は単一のビームに集中します。レーザーは、高エネルギーのパルスを生成することができます、通常まで300 7〜10ナノ秒のパルス幅を持つジュール。CYMER ELS-6400の一部のバージョンでは、高速並列処理のために複数のパルスを同時に生成することもできます。ELS 6400によって作り出されるビームは非常に一貫性があり、リソグラフィ、アブレーション、および他のレーザー加工アプリケーションに使用されます。それはまた医学および化粧品の適用で、皮のresurfacingおよび目の外科のような使用されます。ELS-6400は、エネルギー効率が高く、従来のエキシマレーザーよりも排出量が少ないように設計されています。その低い維持および信頼できる性能はそれを多くの企業のlithographyおよびablationの適用のための普及した選択にします。