中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY B #9014197 を販売中

この商品は既に販売済みのようです。下記の同じようなプロダクトを点検するか、または私達に連絡すれば私達のベテランのチームはあなたのためのそれを見つけます。

ID: 9014197
ウェーハサイズ: 12"
Vertical diffusion furnaces, 12" Base unit for DCS HTO process Includes: Cabinets / units / controllers included Furnace cabinet (including ultra-clean air flow system) Scavenger and water cooling unit Power supply unit (U/P box) (Includes control unit, transformers, SCR, and breaker unit) Main controller (WAVES) Temperature controller FOUP and wafer handling automation included FOUP load port FOUP transfer 18 FOUP stocker FIMS port KHI wafer load automation Variable pitch change mechanism (w/5 fork) Auto tube shutter Boat elevator w/ boat rotation mechanism Mid temp heater: VMM-56-002 1 Included Includes outer/inner T/C Integrated gas system for DCS HTO 1 Included N2O gas stick 1 stick Included DSC gas stick 1 stick Included Purge N2 Vacuum vent Exhaust vent Piping tape heater PAC (Pre Activation Chamber) Vacuum foreline configurations Stainless steel manifold 80A foreline piping Foreline heater APC main valve Vacuum gauge & pressure switch US safety (S2-0302, S8-0999) Quartzware set for DCS HTO 1 Included (Including x2 of 75 slots Ladder Boat) System options: N2 Load lock option 1 Included - O2 analyzer - NGK SH-302 - O2 consumption rate controller Dual boat operation 1 Included N2 boat cooling shower 1 Included Fixture for start up and maintenance 1 Included Final valve unit 1 Included NH3 coating capability                            Hi-temp capacity (<850°C)                          2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Bは、アッシャーとも呼ばれるエッチャーの一種です。真空システム、プロセスソースユニット、プロセスユニットからなる半導体・太陽電池デバイス製造装置です。電子ビーム技術と専用のソフトウェアマシンを使用して、均一性と精度の両方でエッチング処理を制御します。エッチャーは、真空アセット、プロセスソースモデル、およびプロセスユニットの3つの主要なコンポーネントに依存しています。真空装置は、チャンバーから空気とガスを取り出し、その中心となるターボ分子ポンプです。一方、プロセスソースシステムは、マスフローコントローラ、圧力コントローラ、マルチガス穴あきチューブの統合ネットワークを介してアクセスされるプラズマソースガスを供給する上で重要な役割を果たしています。最後に、プロセスユニットは、応用ガス圧力、流量、パワー、およびユニットのタイミングを制御することにより、チャンバー内のエッチングプロセスを提供します。TEL TELINDY Bエッチャーは、電子ビーム蒸発器によるエッチング工程内での高精度な制御が可能です。このビームは、厚さ制御で薄膜源の蒸発を制御するために使用され、また、選択的にプレートをコートする能力を持っています。エッチャーはまた、ウェーハCD(臨界寸法)測定機を使用してエッチングするための多くのプロセスレイヤーを配置することができます。東京電子TELINDY Bエッチャーは、さまざまな基板の均一性を調節する優れた温度制御機能も備えています。このエッチャーの付加的な利点の1つは、オペレータがエッチング工程をニーズに合わせて調整するために、チャンバー圧力、冷却ガス圧力、ガス流量などのプロセスパラメータを利用できることです。最後に、エッチャーには直感的なソフトウェアツールが装備されているため、エッチングプロセスを最適化し、多くのタスクを自動化することができます。これにより、オペレータはさまざまなプロセスパラメータを調整しやすくなり、エッチング処理の結果が一貫して正確であることを確認できます。全体的に、TELINDY Bはエッチング工程の精度と制御を保証する電子ビーム蒸発器を備えた高度なエッチャーです。オペレータはプロセスパラメータを使用してエッチングプロセスをニーズに合わせて調整でき、直感的なソフトウェアアセットは特定のタスクの使いやすさと自動化を保証します。
まだレビューはありません