中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9095367 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303iは、主に半導体業界で使用される拡散炉およびアクセサリーです。TEL ALPHA-303Iは、高速熱処理（RTP）を高温・多種多様なウエハ径で行うコンパクトな装置です。最大4つの異なるプロセスを同時に実行できる効率的で生産性の高いシステムです。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 Iで実行できる独自のプロセスは、酸化、アニーリング、急速熱処理、拡散です。TEL ALPHA 303 Fuzzy Logic Control Unitと呼ばれる制御装置を搭載し、様々なプロセスパラメータに正確かつ迅速に対応します。このデバイスにより、オペレータは温度プロファイル、電源電圧、炉室圧力を簡単に設定および制御できます。さらに、制御デバイスは、エラーが発生した場合にオペレータに警告することができます。ALPHA-303Iには、最大24個の4インチウエハまたは16インチウエハを収容できる大きなプロセスチャンバーがあります。部屋の壁はグラファイトから成り、部屋はさらに断熱材を改善するのを助けるアルミナクラッドシールドによって保護されます。また、ロボットシャトル機を搭載しており、ローディングステーションから原子炉にウェーハを搬送し、その逆も可能です。作動するとき、炉の部屋は1500°Cの最高温度まで加熱され、± 10°Cよりより少しの温度の均等性があります。チャンバー圧力は常に監視され、3-7Torrの精度で最大0.1Torrまで変化させることができます。拡散炉にはさらに、温度プロファイルのサンプリングツールが装備されており、1秒間に最大20倍の温度プロファイルを記録することで、炉の温度範囲を制限します。ALPHA 303 Iは、安全で効率的、正確で生産性の高いウェーハ処理用に設計されています。排気ポートを装備しており、効果的な排気制御のために適切なベントアセットに接続することができます。このモデルはまた、炉とその排気装置を積極的に監視し、継続的な安全と性能を確保するクローズドループ安全機能を備えています。TOKYO ELECTRON Alpha 303iは、半導体加工に最適な効率的で生産性の高い拡散炉です。均一で精度の高い高温に迅速に到達することができ、適切な動作と排出制御を確保するために、さまざまな安全機能を備えています。