中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #104721 を販売中

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ID: 104721
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1994
High-temp furnace, 8" Process: Oxide 8 cassette stockers Frequency 60 Interface.-Cassette ¡V 8"-Phase -3 Voltage, 208V Facilities entry at bottom Wide Body style, Right sided Brooks 5964 MFCs MFC 7 HCl 1 slm MFC 6 O2 1 slm MFC 5 O2 20 slm MFC 4 H2 10 slm MFC 3 Ar 20 slm MFC 2 N2 5 slm MFC 1 N2 20 slm TS-4000SZ Furnace controller Varian TEL LR300 Temperature controller AP Tech O2 and H2 flow switches HEL Pyro Control Touch screen operator interface Load Size 100 wafers-(upgradeable 150) 1200 C Heater Core Lip Seal, Inner T/C, Linear aligner UP/DOWWN axis slide motions No variable pitch. Single or five (5) wafers Boat, CLN ON 07-00202 Cover, Pedestal 07-00204 Pedestal 07-00205 PFA tube (6.35x4.35x1.0T) 06-22014-00-16 inch process Tube Rapid Cooling System power rating: 3 Phase, 208 V, 60 Hz 1994 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8Sは、主に半導体加工に使用されるマルチゾーン拡散炉です。この炉は、内部プロセスチャンバーと外部シェルからなる水平方向のPC制御炉です。TEL ALPHA-8Sは、最大25mm×25mm×10mmのワーク、基板、金型などの小規模サンプルの加工が可能です。プロセス部屋はアルミ合金から組み立てられ、640x550x3。5mm (L × W × H)の内部の容積があります。暖房ゾーンは、最大6つの暖房ステーションで構成され、上下のファンで温度を調整して最適化された均一性を実現します。発熱体は、最大出力定格4kWのKanthalタイプを使用しています。炉には2つの独立した温度制御システムが装備されており、1つは定常温度用、もう1つは急速なサーマルランプまたは冷却用です。温度精度は定常状態では± 1°C、急速なサーマルランピングでは3°Cを±します。温度が200°Cに上昇しても精度を維持できます。TOKYO ELECTRON ALPHA 8 Sのプロセスは、高速データ取得と表示を可能にするハイエンドPCコントローラによって制御されています。データ取得は信頼性が高く、複数のレシピとパラメータでインテリジェントです。洗練されたユーザーインターフェイスと操作メニューを提供し、迅速かつ簡単な操作に最適化されています。TEL ALPHA-8 Sは、金、銅、アルミニウム、錫などの他の材料の加工にも使用できます。ALPHA-8 Sの拡散プロセスは特定のプロセスの条件に従ってカスタマイズすることができます。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8 Sシステムの付属品には、手動でテストされたガスフローメーター、ガスアキュムレータ、断熱カバー、ガスフローレギュレータ、ガス圧力スイッチ、パージガスボトルが含まれます。結論として、TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 Sは、小型サンプル用のアルミ合金内部を有するマルチゾーン拡散炉です。それは2つの独立した温度調整システム、均一な温度制御のための調節可能なファン、データ収集および表示およびさまざまなカスタマイズ可能なプロセスのための高性能PCのコントローラーを特色にします。また、ALPHA 8 Sの性能を最大限に引き出し、半導体工具の加工に最適なアクセサリです。
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