中古 KOKUSAI DD-802V-B #9044527 を販売中

KOKUSAI DD-802V-Bは、高度な半導体製品の効率的かつ費用対効果の高い生産を提供するために設計された拡散炉およびアクセサリー機器です。これは、プロセスチャンバー、ウェーハボート、熱暖房要素、ポンプ、インテグラルクォーツチューブを備えたプロセスチャンバーで構成されています。主要なプロセス部屋はステンレス鋼からなされ、47リットルの容積があります。部屋は1200°Cの最高温度がある容器が装備されています。ウェーハボートは300°C〜1200°Cの3つの温度帯があり、ウェーハ製造時の効率的なプロセス制御が可能です。発熱体は、拡散プロセス中にウェーハボートの均質な加熱を提供します。インテグラルクォーツチューブは、拡散プロセス中にウェーハ表面のドーピングを容易にします。水晶管に1°Cの温度の安定性があり、管の内部容積はドーピングプロセスを増加するか、または減らすために調節することができます。さらに、プロセスチャンバーに統合されたポンプがあります。このポンプは拡散プロセスの間の化学薬品の有効な流れを保障するのに使用されています。KOKUSAI DD-802VBのプロセスチャンバーには3つのガス入力が装備されています。これは、還元、酸化、不活性など、さまざまな大気でプロセスを実行できるようにするために使用されます。ガス入力に加えて、圧力および温度モニターも備えており、拡散雰囲気を正確に制御することができます。このシステムには、ウェーハボートに接続された熱電対や製造工程中の両方の温度を監視するプロセスチャンバーなどの安全機能が装備されています。さらに、ガス/エアフローユニットを使用して、プロセス中の有害な排出物を安全かつ効率的に除去します。全体的に、DD-802V-Bは信頼でき、有効な拡散炉および付属品機械です。先進的な半導体製品をコスト効率よく生産できるように設計されており、企業は製品品質を向上させ、運用コストを削減することができます。これは、オペレータのための安全な作業環境を確保するための様々な安全機能を提供しています。必要な水晶管は便利なドーピング、高められた温度の安定性および拡散の大気の改善された制御を可能にします。