中古 BRUCE BDF-4 #72491 を販売中

BRUCE BDF-4は、金属、セラミックス、ガラスの表面またはバルクに精密制御変更を行うために使用される高性能拡散炉です。それは薄膜、拡散障壁、ゲッターおよび他の部品を作成するために拡散技術を使用します。炉は、下部に反応チャンバーを備えたトップロードのキャビネットで構成されています。チャンバー内には、チャンバーの温度を測定するガス入口、ガス出口、熱電対があります。チャンバーは670〜1600°Cの動作温度範囲を持ち、水平方向と垂直方向の両方で動作できます。チャンバーはセラミックベースの上に座っており、ライザーには外側のエッジにガイドピンが付いています。ライザーは手動の手クランクを使用して上下に動かすことができ、異なったサイズの部分を収容するのに使用されています。るつぼホルダー、棚およびるつぼはライザーに置くことができ、棚は別の操作の高さのために調節することができます。BDF-4には、必要に応じてチャンバー内に真空環境を作成するための真空システムも付属しています。真空圧力は、プロセスの反応要件に応じて真空/圧力レギュレータを介して制御することができます。また、高性能ガス制御システムを備えており、チャンバー内の真空を損なうことなく複数のガス種を導入することができます。ガス制御システムには、温度制御、調整可能なガス出口、およびチャンバー内に存在するガスの正確な量を監視するためのオプションの外部センサーを備えた調整可能なガス入口が含まれています。BRUCE BDF-4はまた、正確な持続時間を必要とするプロセスの正確で反復可能なタイミングを確保するための高温タイマーを備えています。さらに、炉には冷却ファンと風量計が含まれており、チャンバー内で起こるあらゆる反応のクールダウン相を正確に制御します。BDF-4は例外的な拡散炉であり、薄膜、拡散障壁、ゲッターおよびその他の部品を製造するための幅広い用途があります。調節可能なガスの入口、ガスの出口および真空を危険にさらすことなく複数のガス種を導入する能力によって、この炉は複雑で精密な拡散プロセスを行うのに理想的です。