中古 FOUR DIMENSIONS 280SI #9180333 を販売中
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販売された
ID: 9180333
Four point probe station
Measuring bulk wafers
Resistivity tester for measuring bulk wafers
Conductive films:
Metals
EPI
Alloys
Diffusion
Ion implantation
Polysilicon
Measurement range: 1E-3 to 8E5 Ohm/sq
Up to 200 mm in diameter
156 mm X 156 mm Platen
Speedy motions
System backup diskettes
Vacuum hose
Ceramic probe conditioner
Manual (On CD)
Automap
Analysis software mapping package
PC Computer system:
2GHz CPU
250GB Hard drive
1GB RAM
CD ROM Drive
HP Deskjet color printer
19" FPD Monitor
Precision probe head
Software on Windows 7
Calibration set (CAL-1 to CAL 5).
FOUR DIMENSIONS 280SIは、半導体ウェーハ用に設計されたウェーハ試験および計測機器です。これは、利用可能な最も先進的なウェーハ計測プラットフォームである統合システムです。これは、研究環境と生産環境の両方におけるウェーハ試験および計測アプリケーションに最適なソリューションです。280SIは「ラスタービーム分析」と呼ばれる特許技術を使用しており、ウェーハ全体にわたる複数のパラメータの高精度な2Dおよび3D測定および分析を提供します。これは、ウェーハプロセスを最適化し、その重要な寸法とパラメータを検証するのに役立ちます。このユニットは、光学、光学イメージング、表面トポグラフィー、コンタクトプローブ技術などのウェーハ測定に対応しています。干渉計法や分光法を用いて、多層の厚さや特徴サイズを高精度・高精度に測定することができます。また、4Dイメージングマシンを搭載し、深さと立体的な地形をサブウェーブ精度で測定します。FOUR DIMENSIONS 280SIツールには、ウェーハの包括的な特性評価を可能にするデータ分析および処理アルゴリズムが付属しています。それはまたオペレータと相互作用する大きいタッチ画面を特色にします。中央データベースに接続することで、取得したデータを保存・分析することができます。このアセットには標準のPCコネクタがあり、ユーザーは既存のネットワークに280SIを統合し、分散環境で使用することができます。これにより、モデル間の互換性、統合、高度なデータ共有および分析が可能になります。複数のインターフェイスを備えたこの機器は、あらゆる動作環境に適合するように簡単に設定できます。このシステムの堅牢な機械設計により、耐久性が保証され、最大8個のウェーハをサポートします。直感的でユーザーフレンドリーなGUIは、マシンのダウンタイムを最小限に抑え、操作を最適化するように設計されています。FOUR DIMENSIONS 280SIは、優れた精度と精度を高速で提供し、あらゆる計測操作に最適です。革新的な技術と機能を備えた究極のウェーハメトロロジープラットフォームで、研究と生産の両方の目的でスループットを向上させ、信頼性と正確な結果を提供できます。
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