中古 ASML XT 1250 #9191912 を販売中
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販売された
ID: 9191912
ウェーハサイズ: 8"
Stepper, 8"
Wafer type: Notch
Laser model: GIGAPHOTON GT42A4 (20W)
Laser type: GIGAPHOTON Laser
FAT Attendance
OIU / Reticle wafer aux port: Left configuration
CSR's for XT1250B various: CSR 7603
FOUP Machine door sensor: No
PPD IRIS (CSR): No
CSR (AT Multilingual UI): No
Pellicle safeguard (CSR): No
CSR (LS M2M P2P): No
Active contrast control: No
Quasar: No
WH Carrier interface: (25) Wafers open cassette kit
Wafer track interface: SOKUDO RF3/200
Mark sensor
Integrated reticle library: No
IRIS-6 Inch reticles twinscan: No
DOE ID12 Low sigma
DOE MP2 35-X: No
DOE MP2 35-Y: No
DOE ID5 MP4 30-45: No
DOE ID2 MP4 20-45: No
Reticle CIDRW (Tag reader): No
FOUP Lockout system: No
DOE ID6 High sigma
Chuck dependent correction (CSR): No
Image streaming: Standard
Second laser paddle: No
CD-FEC: Standard
Lithoguide ILIAS: Standard
Wafer ID reader: No
MDL View: Site view
Athena narrow marks: Standard
Reticle barcode reader
Focus spot monitor: Standard
Reorder lot service: No
UNIVERSAL Prealignment: No
Recipe creator
Quasar XL: Standard
Automated reticle transport: No
Lot overhead reduction: LOR-2 / Standard
Machine specification for SWkey: B
Quasar XL: Standard
Dose mapper: Standard
Top package: Standard on XT:1400 (Top 2)
PEP for AT 1200B: No PEP package
DOE ID28 MP5 Soft quasar: No
DOE ID18 MP2 40-Y: No
DOE ID19 MP2 40-X: No
DOE ID31 MP4 40-45: No
DOE ID14 MP4 60-45: No
DOE ID21 MP4 45: No
EFESE: No
CSR L1L7 Type_1: No
ASF LS area extension: No
DOE ID9 MP4 20: No
IRIS Feature scan: No
Reticle shape correction
Twinscan wafer switch
DOE ID8 MP2 90-X: No
DOE ID7 MP2 90-Y: No
DOE ID13 MP4 30: No
PupMeas with ILIAS: No
CSR Proximity matching: No
ExpoSure: No
NA Extension / Diaphragm limiter: No
DOE ID29 MP2 60-X: No
DOE ID30 MP2 60-Y: No
Chemical sampling ports: No
ASF (LS Spot Coverage): No
System perf indicators focus: No
Equipment constants: No
BAM (Bandwidth analysis module): No
DOE ID20 Ultra low sigma: No
2D Barcode reader: No
ASF (E-chuck Flatness Qualification): No
Wait watcher: No
Reticle streaming: No
Best uniformity settings (BUSS): No
Grid mapper
Chuck dedication: No
Spot less: No
Module name Last value Status Unit Limit
Total shot 15825.9 - Mpulse -
Chamber 4344.8 36% Mpulse 12000
L/N Module 4345.9 31% Mpulse 14000
Fronut mirror 2260.7 16% Mpulse 14000
Monitor module 7443.7 74% Mpulse 10000
HG Lamp 6113 3% Cycle 200000
F2 Trap (C) 96.62 97% Cycle 100
F2 Trap (T) 5789.8 33% Hour 17520
Excimer shutter 356890 12% Cycle 3000000
Power: 400 V.
ASML XT 1250は、半導体産業でフォトリソグラフィに使用されるウェハステッパーです。ASML XT1250は、円形ウェーハの表面に非常に精密なパターンを製造するために設計された多くの高度な技術を備えています。XT 1250では「ツインフィールドオプティクス」を採用しており、印刷工程においてマスクとウェーハを極めて精密にアライメントすることができます。この技術は、ウェーハ上のサブミクロン分解能で機能を提供します。また、独自のマルチチャネル干渉計を備えており、線形距離の非常に正確な測定を提供します。XT1250は、世界最速のマルチCPUプラットフォームであるapexengineを搭載しています。これにより、大きなウェハを高速かつ高解像度で印刷することができます。また、より小さなウェーハからより大きなデバイスまで、さまざまなアプリケーションを処理するように構成することもできます。Apexengineは、より速い生産サイクル、より高いスループット、より良い均一性を可能にします。ASML XT 1250は、ダイナミックフォーカス補償システム(DFCS)を備えており、印刷プロセス中の焦点精度を維持するのに役立ちます。DFCS技術は、手動で再焦点を合わせる必要性を低減し、安定したパターン印刷を保証します。マシンのSpecifier/Revealerソフトウェアを使用すると、ウェーハに合わせたパターンを作成できます。このソフトウェアは、フィールド位置を調整して均一で正確なパターンを作成することができ、解像度を失うことなくデータを保存するのにも役立ちます。ASML XT1250は、ウエハ表面への最適なフラックス供給を保証するProFluxソリューションも備えています。この革新的なアプローチは、パターンの品質を損なうことなく、ウェーハのエッチング速度を向上させます。さらに、ProFlux構成はジョブごとに複数のウェーハをサポートし、製造メーカーの時間とコストを節約できます。XT 1250は、高度なウェーハステッパーであり、メーカーの高度なソリューションと強力なパフォーマンスを提供します。これは、ウェーハ上の小さな機能の印刷のための比類のない精度、精度と信頼性を提供します。高度なソフトウェアソリューションと組み合わされたこのマシンの高スループットにより、XT1250は設計時間を短縮しながら、歩留まりとスループットを改善しようとする半導体メーカーにとって理想的なソリューションとなります。
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