中古 ASML PAS 5500 #9196425 を販売中

ASML PAS 5500は、フォトリソグラフィープロセスにおける高度なレイヤー、レチクル、およびマスクをサポートするように設計されたウェハステッパーです。本機は機能層の修復・補正が可能で、ウェーハ性能が大幅に向上します。PAS 5500は、幅広い用途に使用されるため、最大解像度4nm、最大スキャン面積463mm x 513mmを備えています。また、振動レベルが低減され、露出の再現性が向上しているため、複数のウエハに均一にレイヤーを露出させることができます。ASML PAS 5500は精密アライメントも可能で、再現性は1 nmです。また、エアロックチャンバー、レーザーインターロック、安全扉など、安全性にも配慮した設計となっています。これにより、運転中の技術者とオペレーターの最低限の接触が保証されます。プログラム可能なPAS 5500 Control Systemは、セットアップ時間を最小限に抑え、露出レベルを制御し、エラーを低減し、ユーザーに一貫したパフォーマンスを提供するように設計されています。ASML PAS 5500には、強力な冷却機能、効率的な材料輸送、優れたビームプロファイル、および動作性能を最大化するための高速クローズダウンシステムも装備されています。この最適化された操作は、顧客に優れたパターン忠実性をもたらします。様々な光源を利用することができ、最大ウェーハ温度で歪みを低減します。その寿命を確実にするために、PAS 5500には堅牢な機械フレームと金属レーザー溶接カバーが装備されており、信頼性が向上しています。7。5 kWの電力要件を備えたASML PAS 5500は、パフォーマンスを犠牲にすることなく、大規模な複数のウェーハ露出をサポートするように設計されています。全体として、PAS 5500は精密リソグラフィ用に設計された信頼性の高い強力なウェーハステッパーです。精度を最大化し、サイクルタイムを短縮し、他の従来のシステムと比較して改善された結果をもたらすように設計されています。