中古 ASML PAS 5500 / 100D #9202871 を販売中

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ASML PAS 5500 / 100D
販売された
ID: 9202871
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Stepper, 8" 2000 vintage.
ASML PAS 5500/ 100Dは、自動光学ウェハステッパーです。このデバイスは、シリコンウェーハを紫外線に正確かつ正確に露出させるように設計されています。ASML PAS 5500/100Dは、高解像度のイメージャ、高度なオプトメカニクス、およびリニアモータを備えたエレクトロニクスを使用して、正確で信頼性の高い微細構造パターンを保証します。このデバイスは、高いスループットと再現性の高い品質を可能にする幅広い光学および機械的設定を備えた精密ツールです。PAS 5500/100 Dは広い視野での露出が可能で、広域ウェハに最適です。高解像度で正確なアライメントを提供する高度なリソグラフィ技術を備えています。これにより、微細構造が正確に形成され、整列されます。また、デジタルサーボモータを搭載した精密モーションコントロールシステムを搭載し、ダイナミックで反復可能なアライメントを実現しています。高精度の光学システムと組み合わされています。このシステムは、レーザー干渉計と画像認識で構築され、正確なパターンとアライメントを確保します。最後に、PAS 5500/100Dには、高度な光学安全および環境保護機能がいくつかあります。ASML PAS 5500/100 Dは、リソグラフィープロセスにおけるフォトマスクの露出のための信頼性が高く精密なツールです。精度、再現性、高スループットにより、高度な半導体デバイス向けのサブミクロンサイズ構造を製造できます。高精度オプトメカニクス、高度なリソグラフィ技術、高精度モーションコントロールを備えており、精度と再現性を確保しています。これらの機能により、PAS 5500/ 100Dは精密な微細構造を生成し、欠陥やプロセスのバリエーションを最小限に抑えることができます。また、高度な光学安全性と環境保護機能を備えており、安全な作業環境を確保しています。ASML PAS 5500/ 100Dは、半導体デバイス製造のフォトリソグラフィープロセスにおいて不可欠なツールであることが証明されています。
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