中古 ACCUSPUTTER AW 4450 #9201786 を販売中
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ID: 9201786
ウェーハサイズ: 8"
Sputtering system, 8"
Wafer loading: Manual
With load lock
Cathodes: (3) Delta shapes / (4) Circle shapes
Sputter methods: RF / DC
Diode / MAGNETRON
Gas lines: 1~3 MFC
Options:
Gas lines with MFC
N2
O2
Customized
Lamp tower alarm with buzzer:
Mechanical pump / Dry pump for process chamber and load lock
Independent mechanical pump / Dry pump for process chamber
Chiller for cooling plates and table
Turbo pump for load lock
Load lock lamp heating function: Up to 200°C
Chamber lamp heating function: Up to 300°C
Plasma etch function
Bias function
Co sputter function
Reactive sputter function
Main frame
28" Diameter SST chamber top plate with ports and cathodes:
Configuration I II
Cathode shape Circle Delta
Cathode size 8" Delta
Cathode quantity 1 to 4 1 to 3
Sputter power supply:
Configuration I II III
DC Power 5 kW 10 kW -
RF Power 1kW 2 kW 3 kW
Pulse DC power 5 kW 10 kW -
Process chamber:
8" Diameter x 12" High stainless steel cylinder with 6"
CF Flange view port and load lock port
28" Diameter stainless steel base plate
11/2" Air operated roughing isolation valve
Air operated gas inlet valve
Air operated vent valve
11/2" Blanked-off leak check port
Removable deposition shields
23" Diameter, 3-position water cooled annular substrate
Table with variable speed motorized table drive
Full circle shutter and vane shutter
Chain drive pallet carrier transport
Heavy duty electric hoist
Load lock:
30" x 28" x 8" Stainless steel load lock chamber
Aluminum cover
Chain drive pallet carrier transport
2" Air operated roughing isolation valve
Air operated vent valve
23" Diameter molybdenum annular substrate pallet
Elevator for pallet up and down function
Vacuum systems for process chamber:
(2) Stage cryo pumps
With 1000 l/s pumping speed for air
Includes:
Chevron
Water cooled compressor and lines
Automatic regeneration controller
Plumbing kit, 71/2"
Aluminum air operated gate valve: 6" ASA
Air operated venetian blind throttling valve
Mechanical pump or dry pump for process: 36.7 Cfm
Chamber and load lock
Gas line with MFC
Ar, 200 SCCM, customized
Power box: AC 380 V / 208 V / 3 Phase.
ACCUSPUTTER AW 4450は、最先端の薄膜蒸着装置です。この産業機器は、シリコンウェーハ、ワイヤ、繊維、電子部品などの幅広い基板の表面に薄い金属層と誘電層を作成するように設計されています。AW 4450は、物理蒸着を使用して、均一で一貫した厚さの薄膜を高効率で生成します。ACCUSPUTTER AW 4450は、13。56 MHzまたは40 kHzの周波数範囲を持つ高度な無線周波数（RF）ジェネレータによって給電されます。これにより、精密かつ強力なスパッタリングが可能となり、非常に一貫した特性を持つ薄膜の成膜が可能になります。さらに、RFパワーは調整可能で、堆積率と層の厚さを正確に制御できます。AW 4450には、1。3 × 10-4 Paに達することができる高真空チャンバー、自動真空セットアップ、および差動ポンプ付きプロセスチャンバーと統合されたターボポンプが装備されています。これにより、スパッタコーティング工程を正確かつ正確に制御できます。また、サンプルサイズは50mmまで対応可能です。HVQ極性制御により、ACCUSPUTTER AW 4450はより高い精度と制御で多層フィルムを堆積することもできます。高品質な製品を保証するために、AW 4450には高度な制御および監視システムが装備されています。これには、プロセス電位モニター、基板バイアス電圧モニター、プラズマ電位モニターが含まれ、すべてをリアルタイムで監視できます。さらに、このユニットにはマスフローコントローラが装備されており、プロセスガスの純度がプロセス全体で一貫したレベルに保たれていることを確認します。ACCUSPUTTER AW 4450は、パワフルで高精度なスパッタリングマシンです。精密なRFパワー調整、高真空チャンバー、スパッタリングチャンバーの差動ポンプ、正確な制御および監視システム、および最大50 mmのサンプルサイズを処理する能力を通じて、このツールは、精度と再現性が不可欠な産業用途に最適です。
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