中古 AIXTRON Tricent #9202043 を販売中

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製造業者
AIXTRON
モデル
Tricent
ID: 9202043
CVD System Currently warehoused.
AIXTRON Tricentは、軍用グレードの高性能半導体エピタキシャルリアクターおよび誘電成膜ツールです。高周波HEMT(高電子モビリティトランジスタ)やOLEDやLEDなどの高度なディスプレイ用途のエピタキシャル層を生成します。Tricentは、中規模から大規模な産業活動を集中的に行うために設計されています。高いスループット蒸着率を実現し、ロット間のプロセス再現性を高めます。AIXTRON Tricentは、RafoxideまたはAPCVD(大気圧の化学蒸着)技術を使用した内部炉で構成されています。追加のサセプターボウルは、さまざまな基板上の誘電体の堆積を提供します。手動介入を最小限に抑える自動ロードロック、環境汚染を最小限に抑えるホットウォール設計、およびスループットを最大化するために水平に取り付けられたデュアルアームロボットインターフェイスを備えています。トライセントは、イオンフラックスを調整し、超クリーンで超純粋な蒸着環境を可能にする電源とプラズマ源で設計されています。これにより、低イオン化量(TID)を必要とする困難な構造や装置を製造するのに適したツールとなります。前述したように、AIXTRON Tricentは半導体産業で利用可能な最も高い沈殿率のいくつかを生産することができます。幅広い成膜プロセスにより、高いアスペクト比の構造とライン幅、サイドウォール方向、ドーピングプロファイルなどの複雑なエッチングのオプションをお客様に提供します。Tricentのオペレータインターフェイスは、プロセスを監視および制御するためのさまざまなユーザーフレンドリーな機能を提供します。さらに、このシステムには、プロセスパラメータを正確にプログラミングし、現場でのフィルム組成とレイヤーパフォーマンスを監視するための多目的な制御機能が装備されています。一般に、AIXTRON Tricentは、最先端の半導体デバイス製造に取り組む人々のための効率的で信頼性の高い生産ツールです。その高度な技術と能力、簡単な操作と組み合わせることで、Tricentは最大の効率と歩留まり向上に最適です。
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