中古 AIXTRON Crius 31x2" #9199511 を販売中

AIXTRON Crius 31x2は、LEDやレーザーなどの光電子デバイスの製造に特に適した先進的なMOCVD（金属有機化学蒸着）原子炉です。AIXTRON Massively Parallel Processing Equipment （AIXTRON Massively Parallel Processing Equipment）は、300 mmと600 mmの両方のウェーハの構成で、単一のウェーハとバッチ処理の両方を可能にします。Crius 31x2システムは、強力な電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマ形成を含む、優れた範囲の機能を提供します。その大きなプロセスチャンバーは、最大3つのガス入口と、ガス混合物または個々のガスのための追加のリモートチャンバーを可能にするように設計されており、チャンバー内のクリーンで均一な環境を維持します。大面積のチャンバーは、より大きなガス量とより良いガスの流れを可能にします。Crius 31x2は、エピタキシャル蒸着品質を最適化するための2つの異なる機能を提供します：MESA（マクロエッジ拡散解析）とSEMPA（空間拡張分子めっき解析）。MESAユニットは、ウェーハエッジ（「マクロ」領域）での堆積不均一性を決定するリアルタイムのin-situ解析を提供します。一方、SEMPAは、小規模で空間スケールでの非均一性をチェックする方法を提供します。2つのシステムは、エピタキシャル蒸着が完全に均一であり、最高品質であることを保証するのに役立ちます。Crius 31x2は、成膜品質の向上に加えて、フルウエハ上で+/-5°Cの温度均一性と最大900°Cのピーク温度を備えた基板温度制御の最適化などの他の機能も提供します。また、リモートダイレクトアクセス制御が付属しており、あらゆる場所からの堅牢で信頼性の高い操作を保証します。全体として、AIXTRON Crius 31x2は、高品質のオプトエレクトロニクスデバイスの製造に最適な高度なMOCVDマシンです。その優れた機能と機能により、シングルウエハとバッチ処理の両方において信頼性が高く、その他のさまざまなアプリケーションにも対応しています。