中古 AIXTRON AIX 200/4 RF #9195285 を販売中

AIXTRON AIX 200/4 RFは、近ナノメートル薄膜の製造用に特別に設計されたプロセス炉です。この原子炉は、金属、半導体、薄膜などの幅広い材料を製造する業界で広く使用されています。これは、電極プラットフォーム、独立した基板平面、および反応チャンバーを含む3軸構成を備えています。AIXTRON AIX 200/4 RFの電極プラットフォームは、周波数スイープ機能を備えたRFソースを備えています。これにより、スループットが向上し、製品の均一性が向上します。さらに、プラズマ放出プロセスを最適化するために、電極を周波数と電力の両方の値で簡単に調整することができます。基板平面も調整可能で、反応室内で基板の位置を操作することができます。AIXTRON AIX 200/4 RFリアクタは、さまざまな構成に対応するようにプログラムすることもできます。最大使用温度1600°Cのこのチャンバーは、スパッタ成膜、ウェーハ接合、薄膜成長、平面化などのプロセスに使用できます。さらに、この原子炉には温度制御用の高出力光ピロメータが装備されています。これにより、ユーザーは薄膜の正確で均質な成長を達成することができます。AIXTRON AIX 200/4 RFは、さまざまな動作ガスにも対応しています。これらには、アルゴン、クリプトン、窒素、酸素が含まれます。このため、原子炉は様々なニーズに合わせて調整することができ、最適な反応条件と優れたフィルム品質を得ることができます。この原子炉には、優れた温度、圧力、電圧制御を提供するために特別な通気システムで設計されたハウジングも装備されています。AIXTRON AIX 200/4 RFは、操作面での柔軟性に加えて、メンテナンスが容易で、監視やトラブルシューティングが容易に行えるように設計されています。高度なデジタル制御と診断システムにより、この原子炉は性能に関するリアルタイムのフィードバックを提供することができます。さらに、この原子炉には、最大99個のあらかじめ決められたプロセスレシピを格納するメモリシステムが内蔵されており、ユーザーは所望のプロセスをすばやくリコールして再開することができます。全体として、AIXTRON AIX 200/4RF炉は、柔軟性、電力、および信頼性の理想的な組み合わせを提供します。プログラマブルな動作モードと包括的なモニタリングと診断機能により、幅広い産業用途において精度と精度を備えた近ナノメートル薄膜の製造に成功します。