中古 AIXTRON 2400 G1 #9191892 を販売中

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製造業者
AIXTRON
モデル
2400 G1
ID: 9191892
ヴィンテージ: 1991
MOCVD Reactor AlGaAs System Main chamber LEYBOLD D65 Pump 15" x 2" and 8" x 3" Configuration: (2) Ga lines (2) In (2) Al (1) Mg (1) Zn (1) Spare (2) As (1) Ph (1) Si2H6 (1) HCl Temperature range: Up to 850°C Used for AlInGaP LEDs Gases used: Arsine, Phosphine, DiSi2H6, HCL Windows based operating system: Upgraded from OS9 Usage: ~4,000 Hours Installed with N2 and H2 disconnected Purged with N2 before shut down (3) / (4) Lauda baths 1991 vintage.
AIXTRON SEのAIXTRON 2400 G1リアクターは、スケーラブルな生産のために設計された半導体の蒸着装置です。それは優秀なプロセス制御および柔軟性を提供する高度の、低圧CVDシステムです。この原子炉は、酸化物、窒化物、ポリシリコン蒸着、熱酸化物およびその他のシリコンベースのプロセスを含む幅広い能力を提供します。その自動化と構成能力のレベルは、薄膜蒸着に理想的な選択肢です。2400 G1は均一で反復可能なプロセス品質を提供するように設計されています。それは完全なプロセス柔軟性を可能にするためにいろいろなガス源に接続される完全に自動化された単位です。また、温度プロファイリング、ガス流量測定、蒸着プロファイリングなどの高度な診断機能を備えており、最大のプロセス制御が可能です。この原子炉は、各チャンバーに3つの原子炉を備えた6つの水平反応チャンバーで構成されたモジュラー設計を採用しています。反応室の中央壁はステンレス製、外壁はセラミック製です。すべての原子炉は輸送レールに接続されており、連続チャンバー間を移動することができます。この機能により、ツール全体で均一な蒸着速度が保証されます。AIXTRON 2400 G1の最高温度範囲は90°C〜1000°Cで、プロセス圧力は5 mBargです。最適なガス配分を容易にするために、さまざまな位置に配置されたガスインジェクタを装備しています。さらに、原子炉は複数のガスを取り込むことができ、この目的のために特別に設計されたガスボックスと排気ラインが含まれています。幅広い機能を備えた2400G 1は、高いレベルの制御と再現性を提供する信頼性と高効率の資産です。このモデルは、幅広い薄膜蒸着プロセスに適しており、最新の半導体生産要件を満たすように設計されています。
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