中古 BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY Micralign #9149904 を販売中

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BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY Micralign
販売された
ID: 9149904
Projection mask aligner.
BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY Micralignは、最新の半導体デバイス製造の課題に対応するように設計された高度なマスクアライナーです。コンパクトなデザイン、堅牢なパフォーマンス、使いやすいユーザーインターフェースにより、フィルムやリソグラフィーをベースとしたテクノロジーに最適なソリューションです。このデバイスの主な特徴は、サブミクロン分解能で結果を提供するアライメント精度です。アライメントには、ウェーハ軸に垂直なフォーカスプレーンとウェーハサイズに等しい視野を生成するデュアルフォーカスレンズを使用しています。これは、アライメントと登録の最高精度を確保するのに役立ちます。さらに、0。1mmの精度を持つ電動XYステージにより、ボンドパッド、コンタクト、ラインなどの小さなジオメトリを高性能で登録できます。BSL Micralignは、露出エラーを低減し、別々のシャッターを必要とするビーム変調機能も備えています。これにより、露出時間が大幅に短縮され、ホットおよびコールドスポットの長期露出リスクが低減されます。さらに、動的レチクル位置測定により、レチクル配置の精度を確保し、マスク内のあらゆる動きを補正します。このデバイスはまた、ランプ強度を監視してプロセス工程間のばらつきを最小限に抑える水晶ランプ監視システムを備えています。ランプは各プロセス状態のための最もよい露出レベルに自動的に調節することができます。また、表面の凹凸を補正する自動フラットナーも備えており、均一なフラットフィールドを提供し、歪みを低減します。最後に、BETA SQUARED LITHOGRAPHY Micralignは、緊急停止、レーザーロックアウト、電磁界保護などのさまざまな安全機能を備えて設計されています。また、このシステムにはユーザーデータ保護機能が搭載されているため、機密ユーザーデータの安全な保管と処理が可能です。Micralignは、半導体デバイスの製造において高精度、高精度、再現性を提供する高度なマスクアライナーです。そのコンパクトなサイズ、堅牢なデザイン、簡単なユーザーインターフェースにより、フィルムとリソグラフィーをベースにしたテクノロジーに理想的なソリューションです。
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