中古 AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 #9197630 を販売中

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ID: 9197630
High current implanter, 8" P/N: 0240-94906 Main system: xR-Leap SMIF System: LPT 2200 Hardware configuration: NOVAPURE Effluent gas scrubber EGS-237 Automated control system MOTOROLA 68040 Processor (VME) with fiber optic isolation Automatic recipe controlled: 0°-7° (Tilt operation) IHC Source (Module and control) Leap II Beamline HDPFS Tetrode extraction assembly Dual extraction PSU Ion source with G2 extraction Leap II control chassis and leap II beam stop Dual range analyzer mag PSU Leap II source chamber exit aperture Wafer orienter: Notched wafers Low metal contamination Silicon coated spoke process wheel with active wafer cooling Vacuum load lock compatible with robotic loading systems Automated cassette - cassette handling with slot integrity ((3) Cassette trays, 8") (2) Light-pens, 17" SONY color terminals Closed loop Dl water cooling system Cryo compressors located remotely Mains matching transformer Rear cyro pump lift Peek scan cover Arm position sensor kit Wafer handling and wheel, 8" 4 Position SDS gas box CT 110" Onboard cryos with CTI 9600 compressors LEYBOLD Turbo pumps SECS II Host computer interface Cooling system: Heat exchanger / Closed loop de-ionized water cooling system Wafer loader: (3) Carousel paddles Wafer orients: Batch notch orient Wheel chamber: (17) Heat sinks, 8" Control system: Fiber optic communication network Control module: VME Microprocessor Plasma flood gun: HDPFS Beam line: IHC Gas panel option: SDS Toxic gas modules for AsH3 and BF3 Tilt: Variable implant angle, ±10° Hard disk: 4 GB RAM: 128 MB CIM Linked 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR80は、半導体材料の製造に使用されるイオンインプラントおよびモニターです。シリコン、ゲルマニウム、ヒ素ガリウムなど多種多様な基板を用いて、正確かつ再現可能なイオン注入を実現するよう設計されています。AMAT xR80は、高精度、高スループットイオン注入装置であり、お客様のさまざまな用途に対応するための柔軟性を備えています。APPLIED MATERIALS XR 80の主成分はイオン源であり、シングルビーム注入とマルチビーム注入操作の両方を実行できます。これにより、高い精度と精度を維持しながら、イオンビームスループットを最大化できます。さらに、イオン源には最大80kVまでの電力範囲があります。この電力範囲で、AMAT XR 80は非常に正確に定義されたエネルギーレベルのイオンを埋め込むことができます。XR80のイオンビームデリバリーシステムは、高い精度と精度を確保するように設計されています。これは、自動ビームアライメント、スポットサイズ調整、およびレーザービーム解析システムを使用して達成されます。APPLIED MATERIALS xR80は、これらの機能により、埋め込まれている基板材料に関係なく、高精度のスポットサイズとビームアライメントを維持することができます。AMAT/APPLIED MATERIALS XR 80には、高感度ビーム電流モニターとイオン線量モニターも内蔵されています。これにより、ユーザーはイオン注入プロセスをリアルタイムで監視し、正確さと再現性を確保できます。XR 80には、プロセスと埋め込まれている基板の両方を保護するための低エネルギーカットオフ、ビーム割込み、およびエンドオブラン警報を含む洗練された安全ユニットが装備されています。これにより、AMAT/APPLIED MATERIALS xR80、イオンを埋め込むための安全で制御された環境を提供できるため、半導体製造に最適です。さらに、AMAT xR80には直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスが付属しているため、ユーザーが簡単にマシンをプログラムしてメンテナンスすることができます。このソフトウェアを使用すると、ユーザーは迅速な計算を実行し、レシピを最適化し、関連するデータ履歴にアクセスすることができます。これにより、APPLIED MATERIALS XR 80は、既存の製造プロセスに簡単に統合できる非常にユーザーフレンドリーなツールになります。全体として、AMAT XR 80はイオンインプランターの優れた選択肢です。高い精度と柔軟性により、半導体材料を製造するための信頼性と安全性の高いプロセスをユーザーに提供します。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスと強力な安全機能により、高い再現性と信頼性を保証します。さまざまな基板に対応できるため、さまざまな用途に最適なツールです。
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