中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus #9185368 を販売中
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販売された
ID: 9185368
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
High current implanter system, 12"
Single wafer
Energy option: LEAP Ultra low (0.2-80 keV)
Stand-alone system enclosure
Signal tower: Front / Back tool
Processor:
ISPM Processor
Isocentric scanner
Beamline:
Ultralife QX+ ion source
G1 Electrode: Graphite
Gas panel box: Argon system and gas purge
TEM
Vacuum:
LEYBOLD Turbo pump
(3) Cryo pumps
SPECTRA Residual gas analyzer (RGA)
MMTX Transformer
Gas panel:
8-Position: AsH3, PH3, GeF4, BF3, SiF4, CO2, 2-Blank
Wafer loader:
4 Station SEMI standard wafer loader
Hermos tag reader
SEMI E84 OHT PIO Kits
Low backside particle vacuum end effectors
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plusは、メーカーが最高品質のイオン注入を実現するために設計された最先端のイオン注入器およびモニターです。このデバイスは、特許取得済みのイオン供給および制御装置、正確なエネルギーレベル設定、および線量率のオンライン監視を通じて優れた性能を提供します。また、システムの信頼性と堅牢性を向上させ、従来のイオンインプラントよりもパフォーマンスを向上させます。AMAT Quantum X Plusのイオン配信ユニットは、非常に正確に制御され、正確に測定されるターゲット基板へのイオンの配信を可能にします。このマシンは、イオンをターゲット基板に正確に集中させて指示することができる4極設計を採用しています。これにより、イオンが必要な場所に正確に誘導され、所望の濃度が達成されることが保証されます。加えて、APPLIED MATERIALTS Quantum X Plusは、イオンが必要なエネルギーレベルでターゲット基板に入ることを確実にする調整可能なエネルギーレベル設定を利用して、着床プロセスのより良い制御を可能にします。Quantum X Plusのオンラインモニタリングツールは、線量率と基質カバレッジのリアルタイム監視を可能にします。これにより、イオン注入プロセスが進行中に最適化され、監視されることが保証されます。また、異なる埋め込み線量とエネルギーレベルの使用に関する有用な情報をメーカーに提供し、必要に応じて埋め込みプロセスに必要な調整を行うことができます。AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plusの堅牢性は、その優れた冷却資産によってさらに強化されています。製造業者は、施設の温度を下げるように設計されたデバイスに高度なチラーを導入し、イオンが着床時に集中し安定した状態を維持します。このデバイスはまた、運転中の線量率と基質カバレッジを継続的に監視するユニークなアクティブシフトモデルを採用しており、着床プロセスを安定かつ正確に維持することができます。結論として、AMAT Quantum X Plusは次世代のイオンインプラントおよびモニターであり、パフォーマンスの向上、機器の信頼性と堅牢性の向上、および正確なエネルギーレベルと線量率監視を提供します。イオン配送制御システム、調整可能なエネルギーレベル、オンラインモニタリング、堅牢な冷却ユニットなど、さまざまなコンポーネントが、優れたイオン注入プロセスに貢献しています。
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